一种化学气相沉积系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710188533.0

申请日：

2017-03-27

公开(公告)号：

CN106676498B

公开(公告)日：

2017-05-17

发明(设计)人：

郭国平杨晖李海欧曹刚肖明郭光灿

申请人：

申请人地址：

230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

IPC主分类号：

C23C16448

IPC分类号：

C23C16455

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

赵青朵

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-06-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101726049415 IPC(主分类):C23C 16/448 专利申请号:2017101885330 申请日:20170327
2017-05-17	公开	公开
2020-01-03	授权	授权

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积系统 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN206607312U ,2017-11-03

[2]

化学气相沉积系统 [P].

胡丹 ;

朱刘 ;

余明 .

中国专利 :CN210104068U ,2020-02-21

[3]

化学气相沉积系统 [P].

赵嘉峰 ;

陈飞 ;

项辉 .

中国专利 :CN217895750U ,2022-11-25

[4]

一种化学气相沉积系统 [P].

戴煜 ;

胡祥龙 ;

胡高健 .

中国专利 :CN203360573U ,2013-12-25

[5]

一种化学气相沉积进气装置及气相沉积系统 [P].

邓雄志 ;

尹宜辉 ;

王建伟 ;

刘超 ;

王振兴 .

中国专利 :CN221254696U ,2024-07-02

[6]

一种化学气相沉积方法 [P].

戴煜 ;

胡祥龙 ;

胡高健 .

中国专利 :CN103343332A ,2013-10-09

[7]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[8]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[9]

化学气相沉积系统 [P].

南琦 ;

刘瑞 ;

邓敏 .

中国专利 :CN209162187U ,2019-07-26

[10]

化学气相沉积系统 [P].

方建中 ;

杨成傑 ;

郑祥炬 .

中国专利 :CN103374709A ,2013-10-30

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