一种化学气相沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310308530.8

申请日：

2013-07-22

公开(公告)号：

CN103343332A

公开(公告)日：

2013-10-09

发明(设计)人：

戴煜胡祥龙胡高健

申请人：

申请人地址：

410118 湖南省长沙市长沙县暮云镇工业园区内湖南顶立科技有限公司

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

魏晓波

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-07	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101742992148 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2013103085308 申请公布日:20131009
2013-10-09	公开	公开
2013-11-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101536325341 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2013103085308 申请日:20130722

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[2]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[3]

一种化学气相沉积系统 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN206607312U ,2017-11-03

[4]

一种化学气相沉积系统 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN106676498B ,2017-05-17

[5]

一种MPCVD化学气相沉积系统和MPCVD化学气相沉积方法 [P].

张文聪 ;

杨勇 ;

朱铧丞 .

中国专利 :CN119876916A ,2025-04-25

[6]

化学气相沉积系统 [P].

赵嘉峰 ;

陈飞 ;

项辉 .

中国专利 :CN217895750U ,2022-11-25

[7]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[8]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[9]

一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统 [P].

朱刘 ;

于金凤 .

中国专利 :CN105039931A ,2015-11-11

[10]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

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