后抛光晶圆清洁

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611166904.7

申请日：

2016-12-16

公开(公告)号：

CN106952804A

公开(公告)日：

2017-07-14

发明(设计)人：

T·久洛伊

申请人：

申请人地址：

英属开曼群岛大开曼岛

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L2104 H01L2167

代理机构：

北京戈程知识产权代理有限公司 11314

代理人：

程伟;王锦阳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101739966279 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2016111669047 申请日:20161216
2017-07-14	公开	公开
2019-06-07	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):H01L 21/02 申请公布日:20170714

共 50 条

[1]

晶圆抛光后清洗装置 [P].

蔡长益 ;

邹毅达 .

中国专利 :CN223347735U ,2025-09-16

[2]

一种晶圆衬底抛光制程后清洗液 [P].

刘小勇 ;

田博 ;

侯琳熙 ;

房龙翔 ;

叶鑫煌 ;

肖小江 ;

刘文生 .

中国专利 :CN114214131A ,2022-03-22

[3]

晶圆抛光设备 [P].

孟晓云 ;

周庆亚 ;

张晓阳 ;

贾若雨 ;

白琨 ;

李嘉浪 ;

吴燕林 .

中国专利 :CN222537291U ,2025-02-28

[4]

一种抛光后晶圆的清洗方法 [P].

李守田 ;

尹先升 ;

贾长征 .

中国专利 :CN111376169A ,2020-07-07

[5]

晶圆清洁系统 [P].

刘锺埈 ;

吕寅准 .

中国专利 :CN111326452B ,2020-06-23

[6]

抛光垫及晶圆抛光装置 [P].

柴万里 ;

王凯 ;

谢毓 .

中国专利 :CN120588104A ,2025-09-05

[7]

抛光垫及晶圆抛光装置 [P].

柴万里 ;

王凯 ;

谢毓 .

中国专利 :CN120588104B ,2025-10-10

[8]

晶圆抛光扣环 [P].

彭朋益 .

中国专利 :CN2643479Y ,2004-09-22

[9]

晶圆抛光装置 [P].

万先进 ;

胡孟杰 ;

李俊 ;

尤国振 ;

张怀东 ;

朱松 ;

边逸军 .

中国专利 :CN220372845U ,2024-01-23

[10]

晶圆粗抛光液 [P].

闵学勇 ;

邢振林 .

中国专利 :CN101781525A ,2010-07-21

← 1 2 3 4 5 →