基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910985753.5

申请日：

2019-10-17

公开(公告)号：

CN111077740A

公开(公告)日：

2020-04-28

发明(设计)人：

鴫原雅人

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

许海兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20191017
2020-04-28	公开	公开

共 50 条

[1]

基板保持装置、曝光装置以及物品制造方法 [P].

坂田峻也 ;

高桥彰宏 ;

大阪昇 .

中国专利 :CN110554576A ,2019-12-10

[2]

基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法 [P].

高桥彰宏 ;

大阪昇 ;

坂田峻也 .

中国专利 :CN110597017A ,2019-12-20

[3]

基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法 [P].

大阪昇 ;

高桥彰宏 ;

坂田峻也 .

中国专利 :CN110554575B ,2019-12-10

[4]

基板保持装置、曝光装置及物品的制造方法 [P].

金子慎也 ;

细川浩伸 .

日本专利 :CN118859636A ,2024-10-29

[5]

保持装置、曝光装置以及物品的制造方法 [P].

青木一久 .

日本专利 :CN117389113A ,2024-01-12

[6]

保持机构、曝光装置以及物品制造方法 [P].

由井友树 ;

羽切正人 ;

木村一贵 ;

关美津留 ;

白畑恭平 ;

西川友弘 .

日本专利 :CN118818907A ,2024-10-22

[7]

曝光装置、曝光方法以及物品制造方法 [P].

早川崇志 ;

今井政树 ;

宫春隆文 .

日本专利 :CN119126509A ,2024-12-13

[8]

保持装置、控制方法、光学装置、曝光装置以及物品的制造方法 [P].

堀笼翔太 .

日本专利 :CN118818908A ,2024-10-22

[9]

基板输送装置、曝光装置以及物品的制造方法 [P].

椎野響太 .

日本专利 :CN119575762A ,2025-03-07

[10]

曝光装置以及物品制造方法 [P].

志村真乡 .

日本专利 :CN112835267B ,2024-08-02

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