在替换金属栅极制造工艺中形成电熔断器的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201180055002.5
申请日
2011-08-16
公开(公告)号
CN103210481A
公开(公告)日
2013-07-17
发明(设计)人
H·K·尤托姆 李影 G·L·利克
申请人
申请人地址
美国纽约阿芒克
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978
代理机构
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
酆迅;张宁
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
金属栅极的形成方法 [P]. 
何其旸 .
中国专利 :CN103107075A ,2013-05-15
[2]
形成高K金属栅极器件的后栅极工艺 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN105336592B ,2016-02-17
[3]
制造金属栅极的方法 [P]. 
吕新亮 ;
赛沙德利·甘古利 ;
阿蒂夫·努里 ;
梅特伊·马哈贾尼 ;
陈世忠 ;
雷雨 ;
傅新宇 ;
唐薇 ;
斯里尼瓦斯·甘迪科塔 .
中国专利 :CN104254914A ,2014-12-31
[4]
熔断器和形成熔断器的方法 [P]. 
玛利亚·莉莉·E·罗西奥斯 ;
艾伯特·V·恩里克斯 ;
维克托·奥利弗·L·塔贝尔 ;
戈登·T·迪奇 ;
基翁·梅森·A·布罗萨 .
美国专利 :CN117766355A ,2024-03-26
[5]
熔断器和形成熔断器的方法 [P]. 
玛利亚·莉莉·E·罗西奥斯 ;
艾伯特·V·恩里克斯 ;
维克托·奥利弗·L·塔贝尔 ;
戈登·T·迪奇 ;
基翁·梅森·A·布罗萨 .
美国专利 :CN111463089B ,2024-07-26
[6]
熔断器和形成熔断器的方法 [P]. 
玛利亚·莉莉·E·罗西奥斯 ;
艾伯特·V·恩里克斯 ;
维克托·奥利弗·L·塔贝尔 ;
戈登·T·迪奇 ;
基翁·梅森·A·布罗萨 .
中国专利 :CN111463089A ,2020-07-28
[7]
金属栅极的形成方法 [P]. 
韩秋华 .
中国专利 :CN104616990B ,2015-05-13
[8]
金属栅极的形成方法 [P]. 
何其旸 .
中国专利 :CN103107073B ,2013-05-15
[9]
金属栅极的形成方法 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN103794482A ,2014-05-14
[10]
金属栅极的形成方法 [P]. 
蒋莉 .
中国专利 :CN102543702A ,2012-07-04