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选择性化学机械抛光钴、氧化锆、多晶硅和二氧化硅膜的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010958435.2
申请日：
2020-09-11
公开(公告)号：
CN112490120A
公开(公告)日：
2021-03-12
发明(设计)人：
M·G·伊瓦纳加姆
M·R·范汉尼赫姆
Y·郭
申请人：
申请人地址：
美国特拉华州
IPC主分类号：
H01L21306
IPC分类号：
C09G102
代理机构：
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人：
乐洪咏;陈哲锋
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-03-30 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/306 申请日:20200911 |
| 2021-03-12 | 公开 | 公开 |