形成图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310034749.3

申请日：

2013-01-29

公开(公告)号：

CN103811312B

公开(公告)日：

2014-05-21

发明(设计)人：

林毓超许家豪吴国钰陈嘉仁陈昭成

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

H01L21308

代理机构：

北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409

代理人：

章社杲;孙征

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-28	授权	授权
2014-06-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583071803 IPC(主分类):H01L 21/027 专利申请号:2013100347493 申请日:20130129
2014-05-21	公开	公开

共 50 条

[1]

形成细微图案的方法 [P].

菅田祥树 ;

金子文武 ;

立川俊和 .

中国专利 :CN1469432A ,2004-01-21

[2]

形成掩模图案的方法 [P].

郑宇荣 ;

沈贵潢 .

中国专利 :CN101452206A ,2009-06-10

[3]

形成细微图案的方法 [P].

新堀博 ;

菅田祥树 ;

金子文武 ;

立川俊和 .

中国专利 :CN1287226C ,2005-03-09

[4]

图案的形成方法 [P].

宛强 ;

夏军 ;

占康澍 ;

徐朋辉 ;

刘涛 ;

李森 .

中国专利 :CN115642079A ,2023-01-24

[5]

图案的形成方法 [P].

王忠诚 ;

陈俊光 ;

赵家峥 .

中国专利 :CN108957948A ,2018-12-07

[6]

图案形成方法 [P].

金东敏 ;

李原荣 ;

李纪万 ;

金升起 ;

崔基植 ;

诸葛银 ;

金贞元 ;

卞哲基 ;

申在浩 ;

边滋勋 .

中国专利 :CN101738854A ,2010-06-16

[7]

在衬底形成图案的方法 [P].

尹辉 ;

张军和 ;

金则清 .

中国专利 :CN106297831A ,2017-01-04

[8]

形成超微细图案的方法 [P].

金炯秀 .

中国专利 :CN1075245C ,1996-03-20

[9]

形成图案的机制 [P].

刘如淦 ;

林仲德 ;

谢铭峰 ;

高蔡胜 ;

张世明 .

中国专利 :CN104681410B ,2015-06-03

[10]

形成光刻胶图案的方法 [P].

汪钉崇 ;

蓝受龙 .

中国专利 :CN101140421B ,2008-03-12

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