在衬底形成图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510262256.4

申请日：

2015-05-21

公开(公告)号：

CN106297831A

公开(公告)日：

2017-01-04

发明(设计)人：

尹辉张军和金则清

申请人：

申请人地址：

中国香港新界沙田香港科学园科技大道东六号新科中心

IPC主分类号：

G11B5127

IPC分类号：

代理机构：

广州三环专利代理有限公司 44202

代理人：

郝传鑫

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-04-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G11B 5/127 申请日:20150521
2017-01-04	公开	公开
2020-04-21	授权	授权

共 50 条

[1]

在衬底上形成图案的方法 [P].

李泰文 ;

杨拥平 .

中国专利 :CN111724816A ,2020-09-29

[2]

图案化蓝宝石衬底的制备方法 [P].

谢丁生 ;

谢红 .

中国专利 :CN110767779A ,2020-02-07

[3]

图案形成方法和衬底蚀刻方法 [P].

李恩雨 ;

吴相录 ;

成正模 ;

宣钟宇 .

中国专利 :CN109659228A ,2019-04-19

[4]

形成图案的方法 [P].

林毓超 ;

许家豪 ;

吴国钰 ;

陈嘉仁 ;

陈昭成 .

中国专利 :CN103811312B ,2014-05-21

[5]

在浮栅上形成微细图案的方法 [P].

崔彰日 ;

邱何 .

中国专利 :CN100580908C ,2009-01-14

[6]

在半导体器件中形成细微图案的方法 [P].

金原圭 ;

宣俊劦 .

中国专利 :CN101335182A ,2008-12-31

[7]

生物掩膜版以及在衬底上图案化的方法 [P].

叶怀宇 ;

王少刚 ;

高宸山 ;

杨荟茹 ;

刘起鹏 ;

张国旗 .

中国专利 :CN113363140A ,2021-09-07

[8]

形成细微图案的方法 [P].

菅田祥树 ;

金子文武 ;

立川俊和 .

中国专利 :CN1469432A ,2004-01-21

[9]

形成掩模图案的方法 [P].

郑宇荣 ;

沈贵潢 .

中国专利 :CN101452206A ,2009-06-10

[10]

形成细微图案的方法 [P].

新堀博 ;

菅田祥树 ;

金子文武 ;

立川俊和 .

中国专利 :CN1287226C ,2005-03-09

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