在衬底上形成图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910213412.6

申请日：

2019-03-20

公开(公告)号：

CN111724816A

公开(公告)日：

2020-09-29

发明(设计)人：

李泰文杨拥平

申请人：

申请人地址：

中国香港新界沙田香港科学园科技大道东六号新科中心

IPC主分类号：

G11B5265

IPC分类号：

G11B531 G11B584

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司 44202

代理人：

郝传鑫

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-29	公开	公开
2022-03-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G11B 5/265 申请日:20190320

共 50 条

[1]

在衬底形成图案的方法 [P].

尹辉 ;

张军和 ;

金则清 .

中国专利 :CN106297831A ,2017-01-04

[2]

一种在衬底上制备图案的方法 [P].

曾凡初 ;

黄翀 .

中国专利 :CN108198752A ,2018-06-22

[3]

在衬底上制备多级台阶的方法 [P].

杨健 ;

司朝伟 ;

韩国威 ;

宁瑾 ;

赵永梅 ;

梁秀琴 ;

王晓东 ;

杨富华 .

中国专利 :CN104445051A ,2015-03-25

[4]

在浮栅上形成微细图案的方法 [P].

崔彰日 ;

邱何 .

中国专利 :CN100580908C ,2009-01-14

[5]

在衬底上形成多阶表面的蚀刻方法 [P].

尹辉 ;

杨拥平 .

中国专利 :CN101614955A ,2009-12-30

[6]

涉及在衬底材料上形成锗原子层的方法、设备和系统 [P].

F·H·法布勒盖特 ;

P·A·帕杜阿诺 ;

G·S·桑胡 ;

J·A·斯迈思三世 ;

M·N·洛克莱 .

中国专利 :CN111540667A ,2020-08-14

[7]

在衬底上沉积材料的方法 [P].

吹上纪明 ;

凯瑟琳娜·巴比彻 .

中国专利 :CN100490069C ,2006-11-22

[8]

一种在透光衬底上制备微纳米结构图案的方法 [P].

李若松 ;

黄翀 .

中国专利 :CN108091552B ,2018-05-29

[9]

图案形成方法和衬底蚀刻方法 [P].

李恩雨 ;

吴相录 ;

成正模 ;

宣钟宇 .

中国专利 :CN109659228A ,2019-04-19

[10]

在硅衬底上生长氮化镓自支撑衬底材料的方法 [P].

刘祥林 ;

焦春美 ;

于英仪 ;

赵凤瑗 .

中国专利 :CN1779910A ,2006-05-31

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