EUV光刻设备的源模块、光刻设备以及用于制造器件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980126024.9

申请日：

2009-07-13

公开(公告)号：

CN102084299A

公开(公告)日：

2011-06-01

发明(设计)人：

M·范赫鹏 W·索尔 A·亚库宁

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H05G200

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-09-11	授权	授权
2011-08-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101102310064 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801260249 申请日:20090713
2011-06-01	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻设备以及使用光刻设备制造器件的方法 [P].

G·L·加托比吉奥 ;

E·H·E·C·尤梅伦 ;

R·奥莱斯拉格斯 ;

G·皮特塞 ;

C·M·洛普斯 ;

L·J·A·范博克霍温 .

中国专利 :CN106575084A ,2017-04-19

[2]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ;

S·比林 ;

M·恩德林斯 ;

M·M·埃斯卡兰特 ;

T·格鲁纳 ;

L·维施迈尔 .

中国专利 :CN106575085B ,2017-04-19

[3]

EUV光刻设备的保护模块以及EUV光刻设备 [P].

德克·H·埃姆 ;

蒂莫·劳弗 ;

本·班尼 ;

詹斯·库格勒 ;

乌尔里克·尼肯 ;

弗兰兹·凯勒 .

中国专利 :CN102144190A ,2011-08-03

[4]

制造器件的方法和光刻设备 [P].

H·J·M·梅杰尔 ;

M·J·M·林肯斯 .

中国专利 :CN101595431A ,2009-12-02

[5]

光刻设备及制造器件的方法 [P].

A·J·布里科 .

中国专利 :CN1501170B ,2010-04-21

[6]

光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法 [P].

R·W·L·拉法瑞 ;

M·瑞鹏 ;

R·H·M·考蒂 ;

R·J·梅杰尔斯 ;

F·伊凡吉里斯塔 .

中国专利 :CN102193328B ,2011-09-21

[7]

光刻设备及制造器件的方法 [P].

G·纳齐博格鲁 .

中国专利 :CN107407892B ,2017-11-28

[8]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

W·O·普里尔 ;

E·A·F·范德帕斯奇 ;

R·F·狄龙 ;

P·D·肯肖 .

中国专利 :CN1503059B ,2004-06-09

[9]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

J·A·维埃拉萨拉斯 ;

A·J·贝恩 ;

V·M·布兰科卡巴洛 .

中国专利 :CN109716238A ,2019-05-03

[10]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

J·J·M·巴塞曼斯 ;

A·J·布里克 ;

P·W·H·德贾格 ;

K·Z·特鲁斯特 .

中国专利 :CN1737688A ,2006-02-22

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