EUV光刻设备的保护模块以及EUV光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980134668.2

申请日：

2009-08-01

公开(公告)号：

CN102144190A

公开(公告)日：

2011-08-03

发明(设计)人：

德克·H·埃姆蒂莫·劳弗本·班尼詹斯·库格勒乌尔里克·尼肯弗兰兹·凯勒

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-30	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101703404464 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801346682 申请公布日:20110803
2011-08-03	公开	公开
2011-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101113520349 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801346682 申请日:20090801

共 50 条

[1]

EUV光刻设备及EUV光刻方法 [P].

季明华 ;

黄早红 ;

任新平 .

中国专利 :CN115047729A ,2022-09-13

[2]

EUV光刻设备及EUV光刻方法 [P].

季明华 ;

黄早红 ;

任新平 .

中国专利 :CN115047729B ,2025-06-17

[3]

EUV光刻方法及EUV光刻设备 [P].

季明华 ;

董于虎 ;

黄早红 .

中国专利 :CN114911141B ,2022-08-16

[4]

EUV光刻设备的源模块、光刻设备以及用于制造器件的方法 [P].

M·范赫鹏 ;

W·索尔 ;

A·亚库宁 .

中国专利 :CN102084299A ,2011-06-01

[5]

制造EUV模块的方法、EUV模块和EUV光刻系统 [P].

A.施梅尔 .

中国专利 :CN107531581B ,2018-01-02

[6]

EUV光刻用EUV活性膜 [P].

罗伯特·克拉克 .

日本专利 :CN118284855A ,2024-07-02

[7]

EUV光刻设备中污染物质的检测 [P].

迪特尔·克劳斯 ;

德克·H·埃姆 ;

斯蒂芬-沃尔夫冈·施米特 .

中国专利 :CN102138105B ,2011-07-27

[8]

用于EUV光刻的底层 [P].

梁懿宸 ;

A·M·查克 ;

王玉宝 ;

D·J·格雷罗 .

中国专利 :CN114556528A ,2022-05-27

[9]

用于EUV光刻的隔膜 [P].

Z·S·豪厄林 ;

M·吉亚西卡比里 ;

A·J·M·吉斯贝斯 ;

L·I·J·C·贝格斯 .

:CN120712518A ,2025-09-26

[10]

EUV光刻的光学布置 [P].

N.贝尔 ;

T.格鲁纳 ;

U.洛林 .

中国专利 :CN104081284A ,2014-10-01

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