EUV光刻设备中污染物质的检测

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980133665.7

申请日：

2009-07-03

公开(公告)号：

CN102138105B

公开(公告)日：

2011-07-27

发明(设计)人：

迪特尔·克劳斯德克·H·埃姆斯蒂芬-沃尔夫冈·施米特

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01J4900

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-01-20	授权	授权
2011-07-27	公开	公开
2011-09-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101105109685 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801336657 申请日:20090703

共 50 条

[1]

EUV光刻设备的保护模块以及EUV光刻设备 [P].

德克·H·埃姆 ;

蒂莫·劳弗 ;

本·班尼 ;

詹斯·库格勒 ;

乌尔里克·尼肯 ;

弗兰兹·凯勒 .

中国专利 :CN102144190A ,2011-08-03

[2]

用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置 [P].

V.库利特斯基 ;

B.盖尔里奇 ;

S.泽尔特 ;

关彦彬 ;

P.德费尔 ;

A.沃姆布兰德 .

中国专利 :CN105137718A ,2015-12-09

[3]

用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置 [P].

V.库利特斯基 ;

B.盖尔里奇 ;

S.泽尔特 ;

关彦彬 ;

P.德费尔 ;

A.沃姆布兰德 .

中国专利 :CN102549503A ,2012-07-04

[4]

土壤中的污染物质固定方法 [P].

国西健史 ;

近藤秀贵 .

中国专利 :CN103920700B ,2014-07-16

[5]

大气中污染物质处理构造 [P].

田邉和也 ;

堤崎高司 ;

仲森正治 .

中国专利 :CN1499067A ,2004-05-26

[6]

EUV光刻设备及EUV光刻方法 [P].

季明华 ;

黄早红 ;

任新平 .

中国专利 :CN115047729A ,2022-09-13

[7]

EUV光刻设备及EUV光刻方法 [P].

季明华 ;

黄早红 ;

任新平 .

中国专利 :CN115047729B ,2025-06-17

[8]

EUV光刻方法及EUV光刻设备 [P].

季明华 ;

董于虎 ;

黄早红 .

中国专利 :CN114911141B ,2022-08-16

[9]

从污染空气中清除污染物质的装置 [P].

海勇 .

中国专利 :CN102476017A ,2012-05-30

[10]

污染物质的处理方法 [P].

H·艾克斯 .

中国专利 :CN1146163A ,1997-03-26

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