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耐热的还原剂喷射喷嘴
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610971973.9
申请日
:
2016-10-28
公开(公告)号
:
CN106884699B
公开(公告)日
:
2017-06-23
发明(设计)人
:
海韦尔·鲍恩
沃尔克·沙伊卡
申请人
:
申请人地址
:
德国多特蒙德
IPC主分类号
:
F01N320
IPC分类号
:
F01N1314
代理机构
:
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262
代理人
:
李慧慧;郑霞
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-10-23
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):F01N 3/20 申请日:20161028
2017-06-23
公开
公开
2020-08-11
授权
授权
共 50 条
[1]
还原剂喷射喷嘴和还原剂计量系统
[P].
赖纳·罗茨海姆
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
欧博耐尔有限公司
欧博耐尔有限公司
赖纳·罗茨海姆
;
比约恩·贝克曼
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
欧博耐尔有限公司
欧博耐尔有限公司
比约恩·贝克曼
.
德国专利
:CN120608758A
,2025-09-09
[2]
用于还原剂制备的加热注射喷嘴和还原剂计量系统
[P].
A·卡塞尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
A·卡塞尔
.
中国专利
:CN114060125A
,2022-02-18
[3]
用于还原剂制备的加热注射喷嘴和还原剂计量系统
[P].
A·卡塞尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
欧博耐尔有限公司
欧博耐尔有限公司
A·卡塞尔
.
德国专利
:CN114060125B
,2025-10-10
[4]
还原剂喷嘴
[P].
S·V·沙
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0
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0
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0
S·V·沙
;
S·R·曼达文卡塔那加
论文数:
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0
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S·R·曼达文卡塔那加
;
I·阿吉雷
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0
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0
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I·阿吉雷
;
A·加亚雷
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0
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0
A·加亚雷
;
Y·T·布伊
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0
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0
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0
Y·T·布伊
;
P·K·奥曼
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0
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P·K·奥曼
;
Y·伊
论文数:
0
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0
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0
Y·伊
.
中国专利
:CN113302384A
,2021-08-24
[5]
旋流喷射模式还原剂喷嘴
[P].
R·V·曼达
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0
R·V·曼达
;
K·L·马丁
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K·L·马丁
;
P·A·兹瓦特
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P·A·兹瓦特
;
A·M·丹尼斯
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A·M·丹尼斯
.
中国专利
:CN111185315A
,2020-05-22
[6]
用于还原剂的喷射模块
[P].
M·比格林
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机构:
罗伯特·博世有限公司
罗伯特·博世有限公司
M·比格林
;
M·莱昂哈德
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0
机构:
罗伯特·博世有限公司
罗伯特·博世有限公司
M·莱昂哈德
.
德国专利
:CN111997717B
,2024-08-06
[7]
用于还原剂的喷射模块
[P].
M·比格林
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M·比格林
;
M·莱昂哈德
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M·莱昂哈德
.
中国专利
:CN111997717A
,2020-11-27
[8]
具有受抑制的还原剂输送的还原剂计量系统
[P].
恩佐·法尔博
论文数:
0
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0
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恩佐·法尔博
;
W·奥弗霍夫
论文数:
0
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0
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0
W·奥弗霍夫
.
中国专利
:CN106460608A
,2017-02-22
[9]
喷射还原剂的方法
[P].
约瑟夫·帕特森
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约瑟夫·帕特森
;
保罗·M·兰恩
论文数:
0
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0
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0
保罗·M·兰恩
.
中国专利
:CN101418713B
,2009-04-29
[10]
还原剂喷射装置的控制装置及控制方法、以及还原剂喷射装置
[P].
黒木史宏
论文数:
0
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0
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黒木史宏
;
土门涉
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土门涉
;
菊地敦
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菊地敦
;
国岛旭
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国岛旭
;
田代翔吾
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0
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田代翔吾
;
中尾英志
论文数:
0
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0
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中尾英志
;
渡部泰幸
论文数:
0
引用数:
0
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0
渡部泰幸
.
中国专利
:CN107076001B
,2017-08-18
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