用于还原剂的喷射模块

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010459630.0

申请日：

2020-05-27

公开(公告)号：

CN111997717A

公开(公告)日：

2020-11-27

发明(设计)人：

M·比格林 M·莱昂哈德

申请人：

申请人地址：

德国斯图加特

IPC主分类号：

F01N320

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

侯鸣慧

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):F01N 3/20 申请日:20200527
2020-11-27	公开	公开

共 50 条

[1]

用于还原剂的喷射模块 [P].

M·比格林 ;

M·莱昂哈德 .

德国专利 :CN111997717B ,2024-08-06

[2]

用于液态还原剂的喷射设备 [P].

R·黑贝尔 .

中国专利 :CN107787396A ,2018-03-09

[3]

还原剂喷射喷嘴和还原剂计量系统 [P].

赖纳·罗茨海姆 ;

比约恩·贝克曼 .

德国专利 :CN120608758A ,2025-09-09

[4]

用于液体还原剂的计量模块 [P].

B·费斯特里泽 ;

M·福埃彻尔 ;

W·帕佩 .

中国专利 :CN102498271B ,2012-06-13

[5]

耐热的还原剂喷射喷嘴 [P].

海韦尔·鲍恩 ;

沃尔克·沙伊卡 .

中国专利 :CN106884699B ,2017-06-23

[6]

喷射还原剂的方法 [P].

约瑟夫·帕特森 ;

保罗·M·兰恩 .

中国专利 :CN101418713B ,2009-04-29

[7]

还原剂喷射装置的控制装置及控制方法、以及还原剂喷射装置 [P].

黒木史宏 ;

土门涉 ;

菊地敦 ;

国岛旭 ;

田代翔吾 ;

中尾英志 ;

渡部泰幸 .

中国专利 :CN107076001B ,2017-08-18

[8]

还原剂喷射装置 [P].

大串彰秀 ;

大石和贵 .

中国专利 :CN111742122B ,2020-10-02

[9]

还原剂喷射装置的控制装置 [P].

关根修三 ;

田代翔吾 .

中国专利 :CN106988836B ,2017-07-28

[10]

用于控制还原剂的喷射的方法和装置 [P].

比约恩·韦斯特贝里 .

中国专利 :CN100443700C ,2007-01-31

← 1 2 3 4 5 →