化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01111233.6

申请日：

2001-03-08

公开(公告)号：

CN1316546A

公开(公告)日：

2001-10-10

发明(设计)人：

酒井士郎北原宏一高松勇吉森勇次

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1646

IPC分类号：

H01L21205 H01L21365

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

刘志平

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-07-13	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2003-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2002-11-27	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:日本派欧尼股份株式会社变更后权利人:日本派欧尼股份株式会社变更事项:共同申请人变更前权利人:NPS株式会社变更后权利人:德岛酸素工业株式会社登记生效日:20021011
2001-10-10	公开	公开

共 50 条

[1]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

王宏兴 ;

小宫由直 ;

吴羽羚儿 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1392595A ,2003-01-22

[2]

化学汽相淀积装置 [P].

高山徹 ;

犬岛 ;

尾高政一 ;

林茂则 ;

広濑直樹 .

中国专利 :CN87106283A ,1988-03-23

[3]

汽相淀积源和汽相淀积装置 [P].

吉川俊明 ;

真下精二 ;

福田直人 .

中国专利 :CN101041891B ,2007-09-26

[4]

垂直化学汽相淀积装置 [P].

陈聪茂 .

中国专利 :CN201501927U ,2010-06-09

[5]

化学汽相淀积装置的净化方法 [P].

长谷川博之 ;

山冈智则 ;

石原良夫 ;

增崎宏 ;

佐藤贵之 ;

铃木克昌 ;

德永裕树 .

中国专利 :CN1497061A ,2004-05-19

[6]

大气压化学汽相淀积 [P].

N·W·约翰斯顿 ;

K·R·科尔曼约斯 ;

N·A·赖特 .

中国专利 :CN101432458A ,2009-05-13

[7]

淀积碳的微波增强化学汽相淀积(CVD)方法 [P].

山崎舜平 .

中国专利 :CN88101061A ,1988-09-07

[8]

微波等离子化学汽相淀积装置 [P].

越前裕 .

中国专利 :CN1029994C ,1989-10-11

[9]

化学汽相淀积稀土掺杂的半导体层 [P].

大卫·B·彼迟 .

中国专利 :CN1117389C ,2000-06-07

[10]

化学汽相淀积涂层切削刀片及其制造方法 [P].

R.库珀 ;

P.莱克特 ;

Y.刘 ;

Z.刘 .

中国专利 :CN106065448A ,2016-11-02

← 1 2 3 4 5 →