化学汽相淀积装置的净化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200310102823.7

申请日：

2000-08-31

公开(公告)号：

CN1497061A

公开(公告)日：

2004-05-19

发明(设计)人：

长谷川博之山冈智则石原良夫增崎宏佐藤贵之铃木克昌德永裕树

申请人：

申请人地址：

日本东京都港区芝浦一丁目2番1号

IPC主分类号：

C23C1600

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

梁永

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/00 申请日:20000831 授权公告日:20061101 终止日期:20190831
2004-05-19	公开	公开
2004-07-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-11-01	授权	授权

共 50 条

[1]

化学汽相淀积装置及其净化方法和半导体制造装置 [P].

长谷川博之 ;

山冈智则 ;

石原良夫 ;

增崎宏 ;

佐藤贵之 ;

铃木克昌 ;

德永裕树 .

中国专利 :CN1289860A ,2001-04-04

[2]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

北原宏一 ;

高松勇吉 ;

森勇次 .

中国专利 :CN1316546A ,2001-10-10

[3]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

王宏兴 ;

小宫由直 ;

吴羽羚儿 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1392595A ,2003-01-22

[4]

化学汽相淀积装置 [P].

高山徹 ;

犬岛 ;

尾高政一 ;

林茂则 ;

広濑直樹 .

中国专利 :CN87106283A ,1988-03-23

[5]

垂直化学汽相淀积装置 [P].

陈聪茂 .

中国专利 :CN201501927U ,2010-06-09

[6]

大气压化学汽相淀积 [P].

N·W·约翰斯顿 ;

K·R·科尔曼约斯 ;

N·A·赖特 .

中国专利 :CN101432458A ,2009-05-13

[7]

汽相淀积源和汽相淀积装置 [P].

吉川俊明 ;

真下精二 ;

福田直人 .

中国专利 :CN101041891B ,2007-09-26

[8]

微波等离子化学汽相淀积装置 [P].

越前裕 .

中国专利 :CN1029994C ,1989-10-11

[9]

淀积碳的微波增强化学汽相淀积(CVD)方法 [P].

山崎舜平 .

中国专利 :CN88101061A ,1988-09-07

[10]

在化学汽相淀积工艺中使用的改进的基座 [P].

R·W·斯坦德利 ;

C·C·扬 .

中国专利 :CN1223709C ,2003-08-06

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