垂直化学汽相淀积装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200920307866.1

申请日：

2009-08-12

公开(公告)号：

CN201501927U

公开(公告)日：

2010-06-09

发明(设计)人：

陈聪茂

申请人：

申请人地址：

200070 上海市闸北区中山北路864号1705室

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

代理机构：

上海申蒙商标专利代理有限公司 31214

代理人：

徐小蓉

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-10-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101587408405 IPC(主分类):C23C 16/44 专利号:ZL2009203078661 申请日:20090812 授权公告日:20100609 终止日期:20130812
2010-06-09	授权	授权

共 50 条

[1]

化学汽相淀积装置 [P].

高山徹 ;

犬岛 ;

尾高政一 ;

林茂则 ;

広濑直樹 .

中国专利 :CN87106283A ,1988-03-23

[2]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

北原宏一 ;

高松勇吉 ;

森勇次 .

中国专利 :CN1316546A ,2001-10-10

[3]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

王宏兴 ;

小宫由直 ;

吴羽羚儿 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1392595A ,2003-01-22

[4]

汽相淀积源和汽相淀积装置 [P].

吉川俊明 ;

真下精二 ;

福田直人 .

中国专利 :CN101041891B ,2007-09-26

[5]

化学汽相淀积装置的净化方法 [P].

长谷川博之 ;

山冈智则 ;

石原良夫 ;

增崎宏 ;

佐藤贵之 ;

铃木克昌 ;

德永裕树 .

中国专利 :CN1497061A ,2004-05-19

[6]

大气压化学汽相淀积 [P].

N·W·约翰斯顿 ;

K·R·科尔曼约斯 ;

N·A·赖特 .

中国专利 :CN101432458A ,2009-05-13

[7]

微波等离子化学汽相淀积装置 [P].

越前裕 .

中国专利 :CN1029994C ,1989-10-11

[8]

淀积碳的微波增强化学汽相淀积(CVD)方法 [P].

山崎舜平 .

中国专利 :CN88101061A ,1988-09-07

[9]

柱形靶电弧汽相淀积装置 [P].

王殿儒 ;

刘维一 ;

遇衍澄 ;

魏耀存 ;

王琰 ;

李燕 ;

冯宇奇 .

中国专利 :CN2221598Y ,1996-03-06

[10]

等离子体增强化学汽相淀积装置 [P].

田桑哲也 .

中国专利 :CN1117889C ,1998-11-11

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