集成电路生产过程中PPID的监控方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200710172935.8
申请日
2007-12-25
公开(公告)号
CN101197300B
公开(公告)日
2011-11-09
发明(设计)人
黎坡 王庆东
申请人
申请人地址
201203 上海市张江高科技圆区郭守敬路818号
IPC主分类号
H01L2166
IPC分类号
代理机构
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
屈蘅
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
集成电路板生产过程智能生产监控系统 [P]. 
郝建华 ;
李会斌 ;
李子考 .
中国专利 :CN110473389A ,2019-11-19
[2]
一种集成电路承载带生产过程中的温度控制装置 [P]. 
胡东红 .
中国专利 :CN204925830U ,2015-12-30
[3]
一种集成电路生产过程中低浓度气体的深度处理工艺 [P]. 
胡彦杰 ;
李春忠 ;
江浩 ;
马京京 .
中国专利 :CN119656858A ,2025-03-21
[4]
金属圆壳封装单片集成电路生产过程中的等离子清洗方法 [P]. 
白艳 ;
张帆 ;
马建军 ;
赵静 .
中国专利 :CN105023830A ,2015-11-04
[5]
包含接触窗的集成电路生产方法、机台及集成电路 [P]. 
徐忠良 ;
瞿春辉 .
中国专利 :CN113675136A ,2021-11-19
[6]
用于集成电路封装过程中的散热设备 [P]. 
郝建华 ;
李会斌 ;
高金生 .
中国专利 :CN110491802B ,2019-11-22
[7]
一种用于集成电路封装模具加工生产过程监控装置 [P]. 
邓小龙 ;
叶露林 ;
甘辉 .
中国专利 :CN212824253U ,2021-03-30
[8]
化纤生产过程中节电装置 [P]. 
杨喜 .
中国专利 :CN213818578U ,2021-07-27
[9]
减少集成电路制造过程中侧壁堆积的金属蚀刻方法 [P]. 
穆尼尔·D·纳依姆 ;
斯图尔特·M·伯恩斯 ;
南希·格雷科 ;
史蒂夫·格雷科 ;
维林德尔·格雷沃尔 ;
厄内斯特·莱文 ;
马萨金·纳里塔 ;
布鲁诺·斯伯尔 .
中国专利 :CN1204864A ,1999-01-13
[10]
用于光学擦除在制造集成电路过程中累积的电荷的过程 [P]. 
A·亚诺斯 ;
I·贝里 ;
A·辛诺特 ;
K·斯图尔特 .
中国专利 :CN1596467A ,2005-03-16