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反射型掩模坯料和反射型掩模
被引：0
申请号：
CN202210196580.0
申请日：
2022-03-02
公开(公告)号：
CN115016223A
公开(公告)日：
2022-09-06
发明(设计)人：
三村祥平
金子英雄
寺泽恒男
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G03F124
IPC分类号：
G03F126
代理机构：
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人：
谭冀
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-09-06 | 公开 | 公开 |