用于抛光铜膜的CMP浆液组合物以及使用其抛光铜膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910732050.1

申请日：

2019-08-08

公开(公告)号：

CN110819237A

公开(公告)日：

2020-02-21

发明(设计)人：

李泳基金亨默辛奈律姜东宪朴泰远

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C23F304

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

马爽;臧建明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-21	公开	公开
2020-03-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20190808

共 50 条

[1]

用于抛光铜膜的CMP浆料组合物和用其抛光铜膜的方法 [P].

金亨默 ;

张根三 ;

姜东宪 ;

李锺元 .

中国专利 :CN112680109B ,2021-04-20

[2]

用于抛光铜的CMP浆料组成物和使用其抛光铜的方法 [P].

崔世荣 ;

黄慈英 ;

沈秀姸 ;

丁元钟 ;

卢健培 .

韩国专利 :CN119220980A ,2024-12-31

[3]

用于有机膜的CMP浆料组合物及使用其的抛光方法 [P].

俞龙植 ;

崔正敏 ;

姜东宪 ;

金泰完 ;

金古恩 ;

金容国 .

中国专利 :CN106687553A ,2017-05-17

[4]

用于抛光铜的CMP浆料组合物和使用其的抛光方法 [P].

卢钟一 ;

姜东宪 ;

金泰完 ;

郑正焕 ;

崔渶楠 ;

洪昌基 .

中国专利 :CN104884563A ,2015-09-02

[5]

用于抛光铜的CMP浆料组合物及使用其的抛光方法 [P].

辛奈律 ;

金元中 ;

都均奉 ;

黄基煜 .

中国专利 :CN109153887A ,2019-01-04

[6]

对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及铜膜抛光方法 [P].

沈秀姸 ;

李知虎 ;

金龙国 ;

崔世荣 ;

黄慈英 ;

金廷熙 .

韩国专利 :CN116515399B ,2025-07-25

[7]

CMP浆料组合物和使用其的抛光方法 [P].

卢炫秀 ;

金东珍 ;

朴容淳 ;

金容国 ;

郑荣哲 .

中国专利 :CN103184011B ,2013-07-03

[8]

铜膜形成用组合物和使用其的铜膜的制造方法 [P].

阿部徹司 ;

斋藤和也 ;

降幡泰久 .

中国专利 :CN107075681A ,2017-08-18

[9]

铜膜形成用组合物和使用其的铜膜的制造方法 [P].

阿部徹司 ;

斋藤和也 .

中国专利 :CN105980599A ,2016-09-28

[10]

铜膜形成用组合物及使用其的铜膜的制造方法 [P].

阿部徹司 ;

斋藤和也 .

中国专利 :CN105408517B ,2016-03-16

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