一种磁控溅射和电子束蒸镀双腔镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201921822834.5

申请日：

2019-10-28

公开(公告)号：

CN211079318U

公开(公告)日：

2020-07-24

发明(设计)人：

郑一强朱柳慧王继唯

申请人：

申请人地址：

202172 上海市崇明区新海镇星村公路700号12幢117-13室(上海新海经济开发区)

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1430 C23C1456

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种磁控溅射和电子束蒸镀双腔镀膜装置及其使用方法 [P].

郑一强 ;

朱柳慧 ;

王继唯 .

中国专利 :CN110592550A ,2019-12-20

[2]

一种磁控溅射真空电子束蒸镀装置 [P].

田守文 .

中国专利 :CN206635405U ,2017-11-14

[3]

一种磁控溅射真空电子束蒸镀系统 [P].

闵永刚 ;

王剑 ;

莫申斌 ;

杨文斌 ;

宋建军 ;

刘屹东 .

中国专利 :CN204369977U ,2015-06-03

[4]

一种液氮冷却磁控溅射真空电子束蒸镀装置 [P].

田守文 .

中国专利 :CN206635404U ,2017-11-14

[5]

一种溅射真空电子束蒸镀装置 [P].

田守文 .

中国专利 :CN206635403U ,2017-11-14

[6]

电子束蒸镀装置及镀膜系统 [P].

李建辉 ;

王超 ;

汪振南 ;

侯建洋 ;

康远浩 ;

孙欣森 .

中国专利 :CN220827448U ,2024-04-23

[7]

一种双室磁控溅射电子束镀膜机 [P].

何吉刚 ;

马宁 ;

王小军 ;

蒋冰霜 ;

魏琼林 ;

蒙志林 ;

冉从军 .

中国专利 :CN205803589U ,2016-12-14

[8]

电子束蒸镀装置 [P].

清水祐辅 ;

山成淳一 .

中国专利 :CN203999792U ,2014-12-10

[9]

一种电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置 [P].

何秉轩 .

中国专利 :CN217536135U ,2022-10-04

[10]

一种多基片溅射真空电子束蒸镀装置 [P].

田守文 .

中国专利 :CN206635402U ,2017-11-14

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