一种磁控溅射真空电子束蒸镀装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201720366134.4

申请日：

2017-04-10

公开(公告)号：

CN206635405U

公开(公告)日：

2017-11-14

发明(设计)人：

田守文

申请人：

申请人地址：

301600 天津市静海县经济开发区新区聚海道以东

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1430

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法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-11-14	授权	授权
2021-03-19	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20170410 授权公告日:20171114 终止日期:20200410

共 50 条

[1]

一种磁控溅射真空电子束蒸镀系统 [P].

闵永刚 ;

王剑 ;

莫申斌 ;

杨文斌 ;

宋建军 ;

刘屹东 .

中国专利 :CN204369977U ,2015-06-03

[2]

一种液氮冷却磁控溅射真空电子束蒸镀装置 [P].

田守文 .

中国专利 :CN206635404U ,2017-11-14

[3]

一种溅射真空电子束蒸镀装置 [P].

田守文 .

中国专利 :CN206635403U ,2017-11-14

[4]

一种多基片溅射真空电子束蒸镀装置 [P].

田守文 .

中国专利 :CN206635402U ,2017-11-14

[5]

一种电子束蒸镀ITO膜的蒸镀装置 [P].

范宾 ;

李胜涛 ;

黄志飞 ;

郑宇才 ;

沈晓磊 .

中国专利 :CN203530419U ,2014-04-09

[6]

一种磁控溅射和电子束蒸镀双腔镀膜装置 [P].

郑一强 ;

朱柳慧 ;

王继唯 .

中国专利 :CN211079318U ,2020-07-24

[7]

一种电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置 [P].

何秉轩 .

中国专利 :CN217536135U ,2022-10-04

[8]

一种电子束蒸镀装置 [P].

姚林松 ;

彭鹏 ;

陈丽祥 .

中国专利 :CN215517609U ,2022-01-14

[9]

电子束蒸镀装置 [P].

清水祐辅 ;

山成淳一 .

中国专利 :CN203999792U ,2014-12-10

[10]

一种电子束蒸镀ITO膜的蒸镀装置 [P].

唐安泰 .

中国专利 :CN209128527U ,2019-07-19

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