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光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201611178018.6
申请日：
2016-12-19
公开(公告)号：
CN106933026B
公开(公告)日：
2017-07-07
发明(设计)人：
山口昇
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F160
IPC分类号：
G03F150
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
李辉;黄纶伟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-07-07 | 公开 | 公开 |
| 2018-06-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/60 申请日:20161219 |
| 2020-12-29 | 授权 | 授权 |