图案化并排列半导体纳米粒子

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580027645.3

申请日：

2005-06-20

公开(公告)号：

CN101061576A

公开(公告)日：

2007-10-24

发明(设计)人：

托米·W·凯利蒂莫西·D·邓巴

申请人：

申请人地址：

美国明尼苏达州

IPC主分类号：

H01L21368

IPC分类号：

H01L21208

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

郭国清;樊卫民

法律状态：

专利权的视为放弃

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-10	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃号牌文件类型代码:1606 号牌文件序号:101013683580 IPC(主分类):H01L 21/368 专利申请号:2005800276453 放弃生效日:20071024
2007-12-19	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-10-24	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体纳米粒子和芯/壳型半导体纳米粒子 [P].

森山乔史 ;

本吉亮介 .

中国专利 :CN111556850A ,2020-08-18

[2]

半导体纳米粒子的制造方法和半导体纳米粒子 [P].

高桥美枝 ;

福田一人 .

日本专利 :CN118382595A ,2024-07-23

[3]

半导体纳米粒子、半导体纳米粒子分散液及光学构件 [P].

森山乔史 ;

佐佐木洋和 ;

松浦圭佑 .

中国专利 :CN113454020A ,2021-09-28

[4]

半导体纳米粒子、半导体纳米粒子分散液及光学构件 [P].

森山乔史 ;

佐佐木洋和 ;

松浦圭佑 .

日本专利 :CN118440687A ,2024-08-06

[5]

半导体纳米粒子、半导体纳米粒子分散液和光学部件 [P].

森山乔史 ;

本吉亮介 .

中国专利 :CN111566045A ,2020-08-21

[6]

半导体纳米粒子复合体组合物、稀释组合物、半导体纳米粒子复合体固化膜、半导体纳米粒子复合体图案化膜、显示元件和半导体纳米粒子复合体分散液 [P].

城户信人 ;

森山乔史 ;

佐佐木洋和 .

中国专利 :CN113939576A ,2022-01-14

[7]

半导体纳米粒子、半导体纳米粒子的制造方法以及发光体 [P].

鸟本司 ;

龟山达矢 ;

久保淳弥 ;

藤平纪一 .

日本专利 :CN118696008A ,2024-09-24

[8]

半导体发光纳米粒子 [P].

I·达维迪 ;

A·伊尔兹 ;

N·格兰巴赫 ;

M·科奥利克 ;

S·内什塔特 ;

A·拉布金 ;

H·阿贝尔 .

中国专利 :CN110072969A ,2019-07-30

[9]

半导体纳米粒子复合体、半导体纳米粒子复合体分散液、半导体纳米粒子复合体组合物和半导体纳米粒子复合体固化膜 [P].

城户信人 ;

森山乔史 ;

佐佐木洋和 .

中国专利 :CN114127225A ,2022-03-01

[10]

半导体纳米粒子复合体、半导体纳米粒子复合体分散液、半导体纳米粒子复合体组合物和半导体纳米粒子复合体固化膜 [P].

城户信人 ;

佐佐木洋和 .

日本专利 :CN114127229B ,2024-04-05

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