半导体器件的形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110340619.3
申请日
2011-11-01
公开(公告)号
CN103094192A
公开(公告)日
2013-05-08
发明(设计)人
洪中山
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件的形成方法 [P]. 
洪中山 .
中国专利 :CN103094136B ,2013-05-08
[2]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
洪中山 .
中国专利 :CN103137545A ,2013-06-05
[3]
半导体器件的形成方法 [P]. 
韩秋华 ;
蒋晓钧 ;
吴端毅 .
中国专利 :CN109841573A ,2019-06-04
[4]
半导体器件的形成方法 [P]. 
黄敬勇 ;
何其暘 .
中国专利 :CN106298669A ,2017-01-04
[5]
半导体器件的形成方法 [P]. 
吴金刚 ;
倪景华 ;
黄晓辉 .
中国专利 :CN102487048B ,2012-06-06
[6]
半导体器件的形成方法 [P]. 
韩秋华 ;
纪世良 .
中国专利 :CN106298666A ,2017-01-04
[7]
半导体器件形成方法 [P]. 
洪中山 .
中国专利 :CN103117247A ,2013-05-22
[8]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
洪中山 .
中国专利 :CN103178000A ,2013-06-26
[9]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
卜伟海 ;
康劲 .
中国专利 :CN104681403A ,2015-06-03
[10]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
冯军宏 .
中国专利 :CN109786359A ,2019-05-21