用于离子注入的方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02814496.1

申请日：

2002-05-23

公开(公告)号：

CN1575503A

公开(公告)日：

2005-02-02

发明(设计)人：

杰伊·T·舒尤尔格雷戈里·R·杰比拉热

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

H01J37317

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

过晓东

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-04-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-04-04	授权	授权
2005-02-02	公开	公开
2022-06-10	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H01J 37/317 申请日:20020523 授权公告日:20070404

共 50 条

[1]

离子注入方法及离子注入装置 [P].

二宫史郎 ;

冈本泰治 ;

弓山敏男 ;

越智昭浩 .

中国专利 :CN103227087B ,2013-07-31

[2]

用于低温离子注入的方法和系统 [P].

张钧琳 ;

魏正泉 ;

吴欣贤 .

中国专利 :CN101781797B ,2010-07-21

[3]

离子注入设备和离子注入方法 [P].

李军华 ;

罗承先 .

中国专利 :CN121075894A ,2025-12-05

[4]

离子注入的监控方法 [P].

陈雪峰 ;

柴利林 .

中国专利 :CN104347441B ,2015-02-11

[5]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

二宫史郎 ;

工藤哲也 .

中国专利 :CN102832092B ,2012-12-19

[6]

离子注入方法及离子注入装置 [P].

二宫史郎 ;

工藤哲也 ;

越智昭浩 .

中国专利 :CN102693903A ,2012-09-26

[7]

控制离子注入工艺的方法和系统 [P].

郑逎汉 ;

陈其贤 .

中国专利 :CN101819926B ,2010-09-01

[8]

离子注入设备、离子注入装置 [P].

廖祥华 ;

贺金良 ;

余懍智 ;

杨树鑫 .

中国专利 :CN223552495U ,2025-11-14

[9]

离子注入方法及离子注入系统 [P].

艾义明 .

中国专利 :CN111162003B ,2020-05-15

[10]

离子注入设备及离子注入方法 [P].

於成星 ;

刘小辉 ;

张和 ;

周静兰 ;

刘修忠 ;

沈保家 ;

李军辉 .

中国专利 :CN112820613B ,2021-05-18

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