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半导体器件及其形成方法
被引:0
申请号
:
CN202210059325.1
申请日
:
2022-01-19
公开(公告)号
:
CN114572929A
公开(公告)日
:
2022-06-03
发明(设计)人
:
王肇仪
古进誉
吕文雄
毛隆凯
郑明达
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
B81B702
IPC分类号
:
B81C100
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-06-03
公开
公开
2022-06-21
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B81B 7/02 申请日:20220119
共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法
[P].
王肇仪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王肇仪
;
古进誉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
古进誉
;
吕文雄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吕文雄
;
毛隆凯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
毛隆凯
;
郑明达
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑明达
.
中国专利
:CN114572929B
,2025-02-28
[2]
半导体器件及其形成方法
[P].
熊德智
论文数:
0
引用数:
0
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0
熊德智
;
吴俊德
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴俊德
;
王鵬
论文数:
0
引用数:
0
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0
王鵬
;
林焕哲
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林焕哲
.
中国专利
:CN113948472A
,2022-01-18
[3]
半导体器件及其形成方法
[P].
陈卓凡
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈卓凡
.
中国专利
:CN108735807B
,2018-11-02
[4]
半导体器件及其形成方法
[P].
洪中山
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
洪中山
.
中国专利
:CN103426755A
,2013-12-04
[5]
半导体器件及其形成方法
[P].
周飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周飞
.
中国专利
:CN109980003B
,2019-07-05
[6]
半导体器件及其形成方法
[P].
钱仕兵
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
钱仕兵
.
中国专利
:CN112582414B
,2021-03-30
[7]
半导体器件及其形成方法
[P].
汪红红
论文数:
0
引用数:
0
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0
汪红红
;
洪纪伦
论文数:
0
引用数:
0
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0
洪纪伦
;
吴宗祐
论文数:
0
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0
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0
吴宗祐
;
林宗贤
论文数:
0
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0
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0
林宗贤
.
中国专利
:CN110112065A
,2019-08-09
[8]
半导体器件及其形成方法
[P].
王潇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王潇
;
孔云龙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
孔云龙
.
中国专利
:CN109935548B
,2019-06-25
[9]
半导体器件及其形成方法
[P].
周鸣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周鸣
.
中国专利
:CN105206598B
,2015-12-30
[10]
半导体器件及其形成方法
[P].
周飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周飞
.
中国专利
:CN109950312A
,2019-06-28
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