用于原子层沉积和化学气相沉积反应器的使用点阀歧管

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310239144.8

申请日：

2013-06-17

公开(公告)号：

CN103510070A

公开(公告)日：

2014-01-15

发明(设计)人：

拉梅什·钱德拉塞卡拉夏春光卡尔·F·利泽达明·斯莱文托马斯·G·朱厄尔

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-01-15	公开	公开
2014-02-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101571924745 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2013102391448 申请日:20130617
2016-06-08	授权	授权

共 50 条

[1]

用于原子层沉积和化学气相沉积反应器的使用点阀歧管 [P].

拉梅什·钱德拉塞卡拉 ;

夏春光 ;

卡尔·F·利泽 ;

达明·斯莱文 ;

托马斯·G·朱厄尔 .

中国专利 :CN105821394A ,2016-08-03

[2]

用于原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）工艺的颗粒反应器 [P].

G·V·达德黑奇 ;

M·蔡 ;

P·加吉尔 .

中国专利 :CN107365974B ,2017-11-21

[3]

化学气相沉积反应器 [P].

G.K.斯特劳赫 ;

D.布里恩 ;

M.道尔斯伯格 .

中国专利 :CN102612571A ,2012-07-25

[4]

化学气相沉积反应器 [P].

李森田 ;

优瑞·吉欧吉维奇·史瑞特 ;

优瑞·图马索维奇·瑞朋 ;

罗斯南·伊凡诺维奇·葛布诺夫 .

中国专利 :CN1854336A ,2006-11-01

[5]

化学气相沉积反应器 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN101036215A ,2007-09-12

[6]

化学气相沉积反应器 [P].

迈克尔·J·贝卡尼 ;

弗兰克·J·卡姆帕纳勒 .

中国专利 :CN101802254B ,2010-08-11

[7]

反应器、化学气相沉积反应器以及有机金属化学气相沉积反应器 [P].

陈卫国 ;

陈京玉 .

中国专利 :CN102154624A ,2011-08-17

[8]

金属的闪光增强原子层沉积和化学气相沉积 [P].

大卫·约瑟夫·曼迪亚 ;

克林特·爱德华·托马斯 ;

班亚·翁森纳库姆 ;

希瓦南达·克里希南·卡纳卡萨巴保蒂 ;

照健·史蒂文·黎 ;

马修·伯特拉姆·爱德华·格里菲思 .

美国专利 :CN121013917A ,2025-11-25

[9]

用于化学气相沉积反应器的方法和设备 [P].

何甘 ;

雷格·东克 ;

凯思德·索拉布吉 ;

罗杰·哈曼吉 ;

安德瑞斯·海吉杜斯 ;

美利莎·艾契尔 ;

哈利·艾华特 ;

斯图尔特·索南费尔特 .

中国专利 :CN102084460A ,2011-06-01

[10]

喷嘴设备和化学气相沉积反应器 [P].

M·雷克 .

中国专利 :CN202671651U ,2013-01-16

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