光刻机能量传感器的性能测量装置和测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310126184.1

申请日：

2013-04-12

公开(公告)号：

CN103197511B

公开(公告)日：

2013-07-10

发明(设计)人：

谢承科陈明杨宝喜黄惠杰

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区800－211邮政信箱

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01J142

代理机构：

上海新天专利代理有限公司 31213

代理人：

张泽纯

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-18	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20190925 变更事项:专利权人变更前权利人:中国科学院上海光学精密机械研究所变更后权利人:北京国望光学科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:201800 上海市嘉定区800－211邮政信箱变更后权利人:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区景园北街2号52幢6层601-10室
2013-08-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101503522255 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013101261841 申请日:20130412
2015-02-18	授权	授权
2013-07-10	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻系统、传感器和测量方法 [P].

彼得·克勒伊特 ;

马尔科·扬·哈科·威兰 ;

埃尔温·斯洛特 ;

蒂斯·弗兰斯·泰佩恩 ;

斯泰恩·威廉·卡雷尔·赫尔曼·斯腾布林克 .

中国专利 :CN101300656B ,2008-11-05

[2]

光刻系统、传感器和测量方法 [P].

彼得·克勒伊特 ;

马尔科·扬·哈科·威兰 ;

埃尔温·斯洛特 ;

蒂斯·弗兰斯·泰佩恩 ;

斯泰恩·威廉·卡雷尔·赫尔曼·斯腾布林克 .

中国专利 :CN103354201B ,2013-10-16

[3]

传感器布置，测量装置和测量方法 [P].

J·奈瑟 .

中国专利 :CN106796103A ,2017-05-31

[4]

用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置及光刻机 [P].

冯建斌 ;

陈南曙 .

中国专利 :CN114063400B ,2022-02-18

[5]

传感器、测量装置以及测量方法 [P].

北胁文久 ;

龟井明仁 ;

河村达朗 .

中国专利 :CN1950694B ,2007-04-18

[6]

光刻测量装置和光刻测量方法 [P].

金志明 ;

金容彻 ;

朴荣植 ;

尹广燮 .

中国专利 :CN105319865B ,2016-02-10

[7]

测量传感器，测量装置，识别模块，测量方法和校准方法 [P].

迪尔克·拜纳 ;

汤米·文 ;

本松·罗 .

中国专利 :CN111751591B ,2024-07-26

[8]

测量传感器，测量装置，识别模块，测量方法和校准方法 [P].

迪尔克·拜纳 ;

汤米·文 ;

本松·罗 .

中国专利 :CN111751591A ,2020-10-09

[9]

光栅测量装置和光刻机 [P].

吴萍 ;

桂坤 ;

王周青 .

中国专利 :CN114111585A ,2022-03-01

[10]

一种光刻机垂向距离测量装置及测量方法 [P].

王天明 .

中国专利 :CN103969957A ,2014-08-06

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