核壳等离子体纳米间隙的纳米结构材料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780020028.3

申请日：

2017-03-24

公开(公告)号：

CN109311662A

公开(公告)日：

2019-02-05

发明(设计)人：

段宏伟周加境

申请人：

申请人地址：

新加坡新加坡市

IPC主分类号：

B82B100

IPC分类号：

B82B300 G01N2165 A61K4100 B82Y4000

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

刘培培;黄爱娇

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-16	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B82B 1/00 申请公布日:20190205
2019-03-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B82B 1/00 申请日:20170324
2019-02-05	公开	公开

共 50 条

[1]

包括牺牲钝化涂层的等离子体纳米结构体 [P].

陈之章 ;

陈健华 ;

J·E·小艾伯特 .

中国专利 :CN108496071A ,2018-09-04

[2]

一种新型表面等离子体传感纳米材料结构 [P].

张鹏飞 .

中国专利 :CN202898010U ,2013-04-24

[3]

衬底上形成具有间隙等离子体纳米材料的方法、传感器 [P].

吴兆鹏 ;

胡志文 ;

邱广宇 ;

徐晨 .

中国专利 :CN112240877B ,2024-11-22

[4]

衬底上形成具有间隙等离子体纳米材料的方法、传感器 [P].

吴兆鹏 ;

胡志文 ;

邱广宇 ;

徐晨 .

中国专利 :CN112240877A ,2021-01-19

[5]

间隙填充材料的等离子体掺杂 [P].

S·萨卡尔 ;

J·S·布朗 ;

秦舒 ;

Y·J·胡 ;

F·M·戈德 .

美国专利 :CN119421416A ,2025-02-11

[6]

间隙填充材料的等离子体掺杂 [P].

S·萨卡尔 ;

J·S·布朗 ;

秦舒 ;

Y·J·胡 ;

F·M·戈德 .

中国专利 :CN113130294A ,2021-07-16

[7]

间隙填充材料的等离子体掺杂 [P].

S·萨卡尔 ;

J·S·布朗 ;

秦舒 ;

Y·J·胡 ;

F·M·戈德 .

美国专利 :CN113130294B ,2024-10-29

[8]

表面等离子体纳米光刻结构及方法 [P].

王钦华 ;

陈根华 ;

楼益民 ;

曹冰 ;

许富洋 .

中国专利 :CN102636967A ,2012-08-15

[9]

等离子体纳米雾产生装置 [P].

吉野大辅 ;

渡边良辅 ;

田中诗织 .

日本专利 :CN118975408A ,2024-11-15

[10]

表面等离子体纳米光刻法 [P].

李海华 .

中国专利 :CN101587296A ,2009-11-25

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