包括牺牲钝化涂层的等离子体纳米结构体

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680079405.6

申请日：

2016-04-19

公开(公告)号：

CN108496071A

公开(公告)日：

2018-09-04

发明(设计)人：

陈之章陈健华 J·E·小艾伯特

申请人：

申请人地址：

美国德克萨斯州

IPC主分类号：

G01N2165

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

马蔚钧;杨思捷

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/65 申请日:20160419
2018-09-04	公开	公开

共 50 条

[1]

包括耐等离子体保护涂层的制品 [P].

邬笑炜 ;

J·Y·孙 ;

M·R·赖斯 .

中国专利 :CN210826347U ,2020-06-23

[2]

抗等离子体的陶瓷涂层的浆料等离子体喷涂 [P].

J·Y·孙 ;

B·P·卡农戈 ;

陈益凯 ;

V·菲鲁兹多尔 .

中国专利 :CN105474363B ,2016-04-06

[3]

等离子体天线及包括其的等离子体处理装置 [P].

金亨源 ;

李允诚 ;

郑熙锡 .

中国专利 :CN111491433A ,2020-08-04

[4]

核壳等离子体纳米间隙的纳米结构材料 [P].

段宏伟 ;

周加境 .

中国专利 :CN109311662A ,2019-02-05

[5]

具有抗等离子体蚀刻的涂层的等离子体蚀刻装置 [P].

桑科特·桑特 .

中国专利 :CN106252188A ,2016-12-21

[6]

等离子体显示模块机架结构和包括它的等离子体显示模块 [P].

金贵圣 ;

方原奎 .

中国专利 :CN100583363C ,2006-07-05

[7]

用于等离子体涂层的装置 [P].

K·S·克利梅克 ;

R·沃格尔桑格 ;

J·阿姆斯伯格 ;

S·凯勒 .

中国专利 :CN203554776U ,2014-04-16

[8]

等离子体诱发的涂层固化 [P].

L·米塞夫 ;

A·瓦莱特 ;

P·辛门丁格 ;

T·荣 .

中国专利 :CN100482694C ,2005-07-27

[9]

亲水性等离子体涂层 [P].

马丁·哥尔勒 ;

托马斯·廓尔迪克 .

中国专利 :CN104271261A ,2015-01-07

[10]

等离子体涂层的密封元件 [P].

F·冯·弗拉格斯特因 ;

M·艾德勒 ;

S·鲁兹 ;

T·世内兹 ;

K·哈尔斯特因 ;

K·菲勒 ;

B·特拉伯 ;

E·普莱姆 .

中国专利 :CN110582530B ,2019-12-17

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