等离子体天线及包括其的等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010274550.8

申请日：

2020-04-09

公开(公告)号：

CN111491433A

公开(公告)日：

2020-08-04

发明(设计)人：

金亨源李允诚郑熙锡

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道华城市

IPC主分类号：

H05H124

IPC分类号：

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李英艳;玉昌峰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-04	公开	公开
2022-02-25	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H05H 1/24 申请公布日:20200804
2020-08-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20200409

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及等离子体天线 [P].

禹相浩 ;

梁日光 ;

宋炳奎 .

中国专利 :CN102204416A ,2011-09-28

[2]

等离子体天线模组及等离子体处理装置 [P].

金亨源 ;

李允诚 ;

郑熙锡 .

中国专利 :CN111952142A ,2020-11-17

[3]

用于产生等离子体的天线和包括其的等离子体处理装置 [P].

金佑奭 ;

蔡胜基 ;

甘度英 ;

李光铭 ;

元济亨 ;

申在光 ;

吴在俊 ;

全尚珍 .

中国专利 :CN1638599A ,2005-07-13

[4]

等离子体工序监控装置及包括其的等离子体处理装置 [P].

尹日求 .

中国专利 :CN110504150A ,2019-11-26

[5]

感应耦合型等离子体天线及等离子体处理装置 [P].

赵政熙 ;

崔伦硕 ;

谢尔盖.扎雷茨基 ;

柳次英 .

中国专利 :CN111133552A ,2020-05-08

[6]

天线、包括天线的微波等离子体源、和等离子体处理装置 [P].

李永光 ;

朴龙均 ;

李东洙 ;

李尚宪 .

中国专利 :CN107454732B ,2017-12-08

[7]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[8]

天线、等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

阿部纯一 ;

中尾博人 .

中国专利 :CN110534393A ,2019-12-03

[9]

等离子体处理用气体、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

末田一行 ;

笹仓昌浩 ;

山本凌音 ;

角川舞 .

中国专利 :CN115699264A ,2023-02-03

[10]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

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