抗等离子体的陶瓷涂层的浆料等离子体喷涂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580001485.9

申请日：

2015-05-06

公开(公告)号：

CN105474363B

公开(公告)日：

2016-04-06

发明(设计)人：

J·Y·孙 B·P·卡农戈陈益凯 V·菲鲁兹多尔

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21208

IPC分类号：

H01L2156

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

黄嵩泉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-04-06	公开	公开
2021-05-07	授权	授权
2017-05-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101723168792 IPC(主分类):H01L 21/208 专利申请号:2015800014859 申请日:20150506

共 50 条

[1]

使用等离子体火焰热处理的等离子体喷涂增强 [P].

J·Y·孙 ;

陈益凯 ;

B·P·卡农戈 .

中国专利 :CN105431232A ,2016-03-23

[2]

具有抗等离子体蚀刻的涂层的等离子体蚀刻装置 [P].

桑科特·桑特 .

中国专利 :CN106252188A ,2016-12-21

[3]

用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源 [P].

金南宪 .

中国专利 :CN101040366A ,2007-09-19

[4]

等离子体喷涂设备 [P].

尼古拉·苏斯洛夫 .

中国专利 :CN1682578A ,2005-10-12

[5]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[6]

带有等离子体屏蔽罩的等离子体设备 [P].

赵迪 ;

王达成 ;

洪岚 ;

陈丽梅 ;

郑超英 ;

王佳斌 .

中国专利 :CN214960249U ,2021-11-30

[7]

等离子体蚀刻和等离子体切割的方法 [P].

奥立佛·J·安塞尔 ;

马丁·哈尼辛克 ;

珍妮特·霍普金斯 .

中国专利 :CN108987342A ,2018-12-11

[8]

包含等离子体测量装置的等离子体设备 [P].

李政范 .

中国专利 :CN100524678C ,2003-10-08

[9]

具有等离子体喷涂涂层的支撑环 [P].

吴菅 ;

中川敏行 ;

中西孝之 .

中国专利 :CN111819679A ,2020-10-23

[10]

等离子体约束组件及等离子体处理装置 [P].

范光伟 ;

叶如彬 ;

杨宽 ;

周艳 .

中国专利 :CN119811971A ,2025-04-11

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