等离子体涂层的密封元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880029376.1

申请日：

2018-04-18

公开(公告)号：

CN110582530B

公开(公告)日：

2019-12-17

发明(设计)人：

F·冯·弗拉格斯特因 M·艾德勒 S·鲁兹 T·世内兹 K·哈尔斯特因 K·菲勒 B·特拉伯 E·普莱姆

申请人：

申请人地址：

德国魏茵海姆

IPC主分类号：

C08J712

IPC分类号：

B05D100 F16J1510

代理机构：

北京市君合律师事务所 11517

代理人：

吴龙瑛;何筝

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-03	授权	授权
2019-12-17	公开	公开

共 50 条

[1]

用于等离子体涂层的装置 [P].

K·S·克利梅克 ;

R·沃格尔桑格 ;

J·阿姆斯伯格 ;

S·凯勒 .

中国专利 :CN203554776U ,2014-04-16

[2]

亲水性等离子体涂层 [P].

马丁·哥尔勒 ;

托马斯·廓尔迪克 .

中国专利 :CN104271261A ,2015-01-07

[3]

抗等离子体的陶瓷涂层的浆料等离子体喷涂 [P].

J·Y·孙 ;

B·P·卡农戈 ;

陈益凯 ;

V·菲鲁兹多尔 .

中国专利 :CN105474363B ,2016-04-06

[4]

等离子体坩埚的密封 [P].

A·S·尼特 ;

B·普雷斯顿 ;

E·C·奥德尔 ;

A·萨迪克 ;

H·桑德 .

中国专利 :CN102388430A ,2012-03-21

[5]

密封等离子体炬 [P].

阿达姆·卡鲁 ;

马克西姆·沃罗诺夫 ;

亚历山大·洛博达 ;

马修·威尔 .

加拿大专利 :CN119032632A ,2024-11-26

[6]

等离子体坩埚密封 [P].

A·S·尼特 ;

B·普勒斯顿 .

中国专利 :CN104395984B ,2015-03-04

[7]

等离子体诱发的涂层固化 [P].

L·米塞夫 ;

A·瓦莱特 ;

P·辛门丁格 ;

T·荣 .

中国专利 :CN100482694C ,2005-07-27

[8]

具有抗等离子体蚀刻的涂层的等离子体蚀刻装置 [P].

桑科特·桑特 .

中国专利 :CN106252188A ,2016-12-21

[9]

等离子体处理装置的元件 [P].

安瑟埃·德拉莱拉 ;

沙鲁巴·J·乌拉尔 .

中国专利 :CN101578926A ,2009-11-11

[10]

眼用器件的大气等离子体涂层 [P].

邱永兴 ;

J·D·普鲁伊特 ;

C·科拉鲁 ;

M·A·邓克利 ;

松泽康夫 .

中国专利 :CN103249544B ,2013-08-14

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