等离子体坩埚密封

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380030440.5

申请日：

2013-05-03

公开(公告)号：

CN104395984B

公开(公告)日：

2015-03-04

发明(设计)人：

A·S·尼特 B·普勒斯顿

申请人：

申请人地址：

英国白金汉郡

IPC主分类号：

H01J9395

IPC分类号：

H01J940 H01J6504

代理机构：

北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280

代理人：

王勇;王博

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-31	授权	授权
2020-04-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 9/395 申请日:20130503 授权公告日:20170531 终止日期:20190503
2015-07-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616186739 IPC(主分类):H01J 9/395 专利申请号:2013800304405 申请日:20130503
2015-03-04	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体坩埚的密封 [P].

A·S·尼特 ;

B·普雷斯顿 ;

E·C·奥德尔 ;

A·萨迪克 ;

H·桑德 .

中国专利 :CN102388430A ,2012-03-21

[2]

透明等离子体坩埚 [P].

A·S·尼特 ;

B·普勒斯顿 .

中国专利 :CN102439691B ,2012-05-02

[3]

密封等离子体炬 [P].

阿达姆·卡鲁 ;

马克西姆·沃罗诺夫 ;

亚历山大·洛博达 ;

马修·威尔 .

加拿大专利 :CN119032632A ,2024-11-26

[4]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[5]

等离子体涂层的密封元件 [P].

F·冯·弗拉格斯特因 ;

M·艾德勒 ;

S·鲁兹 ;

T·世内兹 ;

K·哈尔斯特因 ;

K·菲勒 ;

B·特拉伯 ;

E·普莱姆 .

中国专利 :CN110582530B ,2019-12-17

[6]

用于透明波导等离子体光源的坩埚 [P].

B·普勒斯顿 .

中国专利 :CN104956460A ,2015-09-30

[7]

等离子体监测方法、等离子体监测装置和等离子体处理装置 [P].

松本直树 ;

山泽阳平 ;

輿水地盐 ;

松土龙夫 ;

濑川澄江 .

中国专利 :CN100520382C ,2004-10-27

[8]

等离子体喷镀头、等离子体喷镀装置及等离子体喷镀方法 [P].

小林義之 .

中国专利 :CN109023215A ,2018-12-18

[9]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN101908460A ,2010-12-08

[10]

等离子体处理方法以及等离子体装置 [P].

西宫智靖 ;

扇谷浩通 ;

平本道广 .

中国专利 :CN1992162A ,2007-07-04

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