等离子体喷镀头、等离子体喷镀装置及等离子体喷镀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810581457.4

申请日：

2018-06-07

公开(公告)号：

CN109023215A

公开(公告)日：

2018-12-18

发明(设计)人：

小林義之

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C4134

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-18	公开	公开
2019-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 4/134 申请日:20180607

共 50 条

[1]

等离子体喷镀装置和等离子体喷镀方法 [P].

大西辽 ;

西田辰夫 ;

古屋敦城 .

中国专利 :CN112410717A ,2021-02-26

[2]

等离子体喷镀装置 [P].

杦本正信 ;

山田谦一 ;

入江政信 .

中国专利 :CN102560323A ,2012-07-11

[3]

等离子体喷镀装置 [P].

杦本正信 ;

山田谦一 ;

入江政信 .

中国专利 :CN102534458B ,2012-07-04

[4]

等离子体喷镀装置和喷镀控制方法 [P].

小林義之 ;

桧森慎司 ;

古谷直一 .

日本专利 :CN109937613B ,2024-02-23

[5]

等离子体喷镀装置和喷镀控制方法 [P].

小林義之 ;

桧森慎司 ;

古谷直一 .

中国专利 :CN109937613A ,2019-06-25

[6]

喷镀喷嘴以及等离子体喷镀装置 [P].

吉田和弘 ;

深尾伸次 ;

东慧 ;

谷川秀次 ;

坊野匠 .

中国专利 :CN110997968A ,2020-04-10

[7]

等离子体处理装置用部件及其喷镀方法 [P].

小林义之 .

中国专利 :CN109256326A ,2019-01-22

[8]

等离子体头及等离子体产生装置 [P].

佐野裕贵 ;

池户俊之 ;

岩田卓也 .

日本专利 :CN119054416A ,2024-11-29

[9]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[10]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN101908460A ,2010-12-08

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