等离子体喷镀装置

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专利类型
发明
申请号
CN201110410176.0
申请日
2011-12-09
公开(公告)号
CN102560323A
公开(公告)日
2012-07-11
发明(设计)人
杦本正信 山田谦一 入江政信
申请人
申请人地址
日本大阪
IPC主分类号
C23C412
IPC分类号
C23C406
代理机构
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280
代理人
王勇
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体喷镀头、等离子体喷镀装置及等离子体喷镀方法 [P]. 
小林義之 .
中国专利 :CN109023215A ,2018-12-18
[2]
等离子体喷镀装置 [P]. 
杦本正信 ;
山田谦一 ;
入江政信 .
中国专利 :CN102534458B ,2012-07-04
[3]
等离子体喷镀装置和等离子体喷镀方法 [P]. 
大西辽 ;
西田辰夫 ;
古屋敦城 .
中国专利 :CN112410717A ,2021-02-26
[4]
喷镀喷嘴以及等离子体喷镀装置 [P]. 
吉田和弘 ;
深尾伸次 ;
东慧 ;
谷川秀次 ;
坊野匠 .
中国专利 :CN110997968A ,2020-04-10
[5]
等离子体喷镀装置和喷镀控制方法 [P]. 
小林義之 ;
桧森慎司 ;
古谷直一 .
日本专利 :CN109937613B ,2024-02-23
[6]
等离子体喷镀装置和喷镀控制方法 [P]. 
小林義之 ;
桧森慎司 ;
古谷直一 .
中国专利 :CN109937613A ,2019-06-25
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
堀口贵弘 ;
大见忠弘 ;
平山昌树 .
中国专利 :CN101017769A ,2007-08-15
[8]
利用等离子体连续聚合系统的喷镀装置 [P]. 
尹东植 .
中国专利 :CN1265021C ,2003-05-28
[9]
等离子体处理装置用部件及其喷镀方法 [P]. 
小林义之 .
中国专利 :CN109256326A ,2019-01-22
[10]
等离子体处理装置 [P]. 
池田太郎 ;
江原宽贵 .
日本专利 :CN112652512B ,2024-11-08