有机膜CMP浆料组合物和使用其的抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880072308.3

申请日：

2018-07-20

公开(公告)号：

CN111315836A

公开(公告)日：

2020-06-19

发明(设计)人：

崔正敏郑荣哲金廷熙姜东宪

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C09K314 H01L21306

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

曲在丹

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20180720
2022-03-15	授权	授权
2020-06-19	公开	公开

共 50 条

[1]

用于有机膜的CMP浆料组合物及使用其的抛光方法 [P].

俞龙植 ;

崔正敏 ;

姜东宪 ;

金泰完 ;

金古恩 ;

金容国 .

中国专利 :CN106687553A ,2017-05-17

[2]

CMP浆料组合物和使用其的抛光方法 [P].

卢炫秀 ;

金东珍 ;

朴容淳 ;

金容国 ;

郑荣哲 .

中国专利 :CN103184011B ,2013-07-03

[3]

用于有机膜的CMP浆料组合物及使用其的研磨方法 [P].

崔正敏 ;

金泰完 ;

都均奉 ;

姜东宪 ;

金东珍 ;

兪龙植 ;

崔渶楠 .

中国专利 :CN107636110A ,2018-01-26

[4]

用于抛光铜的CMP浆料组合物和使用其的抛光方法 [P].

卢钟一 ;

姜东宪 ;

金泰完 ;

郑正焕 ;

崔渶楠 ;

洪昌基 .

中国专利 :CN104884563A ,2015-09-02

[5]

用于抛光有机膜的浆料组合物和使用其抛光有机膜的方法 [P].

金廷熙 ;

姜东宪 ;

崔正敏 ;

俞龙植 .

中国专利 :CN110023433B ,2019-07-16

[6]

用于抛光铜线的CMP浆料组合物及使用其的抛光方法 [P].

卢钟一 ;

姜东宪 ;

郑正焕 ;

崔渶楠 .

中国专利 :CN107109135A ,2017-08-29

[7]

用于抛光铜的CMP浆料组合物及使用其的抛光方法 [P].

辛奈律 ;

金元中 ;

都均奉 ;

黄基煜 .

中国专利 :CN109153887A ,2019-01-04

[8]

有机膜CMP浆料组成物的应用及使用其的研磨方法 [P].

崔正敏 ;

都均奉 ;

姜东宪 ;

金东珍 ;

兪龙植 ;

郑荣哲 ;

赵炫洙 .

中国专利 :CN108138029B ,2018-06-08

[9]

有机膜CMP浆料组成物及使用其的研磨方法 [P].

崔正敏 ;

能条治辉 ;

朴容淳 ;

兪龙植 ;

姜东宪 ;

金高恩 ;

金泰完 .

中国专利 :CN105143390A ,2015-12-09

[10]

用于金属膜的CMP浆料组合物和抛光方法 [P].

朴京主 ;

俞龙植 .

中国专利 :CN109415598A ,2019-03-01

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