扫描清洗装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200720015941.8

申请日：

2007-11-16

公开(公告)号：

CN201126812Y

公开(公告)日：

2008-10-01

发明(设计)人：

侯宪华张军

申请人：

申请人地址：

110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2102 H01L2167 B08B302

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司

代理人：

张志伟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-10-01	授权	授权
2017-12-26	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20071116 授权公告日:20081001

共 50 条

[1]

扫描清洗装置 [P].

侯宪华 ;

张军 .

中国专利 :CN101436521A ,2009-05-20

[2]

低温药液清洗装置 [P].

滕宇 .

中国专利 :CN204620539U ,2015-09-09

[3]

晶片表面清洗装置 [P].

刘海晓 ;

吴仪 .

中国专利 :CN202356338U ,2012-08-01

[4]

一种双喷嘴清洗装置 [P].

张浩渊 .

中国专利 :CN103094148A ,2013-05-08

[5]

晶片表面清洗装置及清洗方法 [P].

刘海晓 ;

吴仪 .

中国专利 :CN102416391A ,2012-04-18

[6]

一种半导体晶片的清洗装置 [P].

康凯 ;

刘景亮 ;

陆前军 ;

王子荣 .

中国专利 :CN208298787U ,2018-12-28

[7]

甩干机清洗装置 [P].

郑东 ;

肖迪 .

中国专利 :CN213781996U ,2021-07-23

[8]

气液两相雾化流量可控清洗装置 [P].

苏宇佳 ;

吴仪 .

中国专利 :CN203721681U ,2014-07-16

[9]

半导体晶片清洗装置 [P].

马祖光 ;

郭光辉 .

中国专利 :CN208923038U ,2019-05-31

[10]

半导体晶片清洗装置 [P].

陈海 ;

顾正龙 .

中国专利 :CN210722959U ,2020-06-09

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