一种低栅‑漏电荷的沟槽功率MOS器件

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201621083924.3
申请日
2016-09-27
公开(公告)号
CN206116407U
公开(公告)日
2017-04-19
发明(设计)人
袁力鹏 徐吉程 范玮
申请人
申请人地址
710018 陕西省西安市雁塔区永松路18号秋涛阁1幢40501室
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L29423
代理机构
广州三环专利代理有限公司 44202
代理人
郭永丽
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
低漏电流深沟槽功率MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN208045509U ,2018-11-02
[2]
一种低栅极电荷深沟槽功率MOS器件及其制造方法 [P]. 
秦旭光 ;
殷允超 .
中国专利 :CN101719516A ,2010-06-02
[3]
一种降低栅极电荷的平面栅功率器件 [P]. 
薛璐 ;
何军 ;
张海涛 .
中国专利 :CN208489199U ,2019-02-12
[4]
低栅漏电容的沟槽MOS器件 [P]. 
刘伟 ;
王凡 .
中国专利 :CN202473929U ,2012-10-03
[5]
沟槽功率MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN207624702U ,2018-07-17
[6]
低漏电流深沟槽功率MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN208045505U ,2018-11-02
[7]
沟槽型功率器件的沟槽栅结构 [P]. 
常虹 .
中国专利 :CN211455690U ,2020-09-08
[8]
深沟槽功率MOS器件 [P]. 
黄彦智 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN208045510U ,2018-11-02
[9]
低栅极电荷低导通电阻深沟槽功率MOSFET器件 [P]. 
朱袁正 ;
秦旭光 ;
丁磊 ;
叶鹏 .
中国专利 :CN202205757U ,2012-04-25
[10]
优化FOM值的沟槽功率MOS管器件及其制造方法 [P]. 
袁力鹏 ;
徐吉程 ;
董超 .
中国专利 :CN106298884A ,2017-01-04