具有芴结构的树脂及光刻用下层膜形成材料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280047440.1

申请日：

2012-09-04

公开(公告)号：

CN103827163A

公开(公告)日：

2014-05-28

发明(设计)人：

东原豪内山直哉越后雅敏

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C08G6102

IPC分类号：

C08L6500 G03F711 H01L21027

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101584140028 IPC(主分类):C08G 61/02 专利申请号:2012800474401 申请日:20120904
2016-07-20	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101735690453 IPC(主分类):C08G 61/02 专利申请号:2012800474401 申请公布日:20140528
2014-05-28	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

东原豪 ;

内山直哉 .

中国专利 :CN103733136A ,2014-04-16

[2]

光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

东原豪 ;

内山直哉 .

中国专利 :CN106094440A ,2016-11-09

[3]

酚醛系树脂以及光刻用下层膜形成材料 [P].

内山直哉 ;

东原豪 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN103619892A ,2014-03-05

[4]

光刻用膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光刻用下层膜及图案形成方法 [P].

堀内淳矢 ;

牧野岛高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN113166415A ,2021-07-23

[5]

化合物、树脂、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜、图案形成方法、及化合物或树脂的纯化方法 [P].

牧野岛高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN106103396A ,2016-11-09

[6]

化合物、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

牧野岛高史 ;

内山直哉 .

中国专利 :CN104969127B ,2015-10-07

[7]

化合物、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

牧野岛高史 ;

内山直哉 .

中国专利 :CN104981463B ,2015-10-14

[8]

光刻用膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光刻用下层膜和图案形成方法 [P].

上野雅义 ;

山田弘一 ;

千叶彬史 ;

杉户健 ;

堀内淳矢 ;

牧野岛高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN112400138A ,2021-02-23

[9]

光刻用膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光刻用下层膜和图案形成方法 [P].

堀内淳矢 ;

上野雅义 ;

山田弘一 ;

牧野岛高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN112368644A ,2021-02-12

[10]

化合物、树脂、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜、图案形成方法及化合物或树脂的纯化方法 [P].

冈田佳奈 ;

堀内淳矢 ;

牧野嶋高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN107406383A ,2017-11-28

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