蚀刻方法和蚀刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910694304.5

申请日：

2019-07-30

公开(公告)号：

CN110783188A

公开(公告)日：

2020-02-11

发明(设计)人：

阿部拓也三好秀典清水昭贵长仓幸一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01L2167 H01J3732

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-11	公开	公开
2020-03-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20190730

共 50 条

[1]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

日本专利 :CN113053745B ,2025-07-25

[2]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

高桥信博 ;

中込健 .

中国专利 :CN115483098A ,2022-12-16

[3]

蚀刻装置和蚀刻方法 [P].

新藤尚树 ;

桑岛亮 ;

户田聪 .

日本专利 :CN112542400B ,2024-07-16

[4]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

中国专利 :CN113053745A ,2021-06-29

[5]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

田原慈 ;

雅各·法盖 ;

前川薫 ;

大野久美子 ;

佐藤渚 ;

雷米·杜萨特 ;

托马斯·蒂洛彻 ;

菲利普·勒福舍 ;

盖尔·安托万 .

日本专利 :CN113966546B ,2025-08-08

[6]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

神户乔史 .

中国专利 :CN108987285A ,2018-12-11

[7]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

西塚哲也 .

中国专利 :CN100565816C ,2008-11-19

[8]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

高桥信博 ;

中込健 .

日本专利 :CN115483098B ,2025-10-21

[9]

蚀刻装置和蚀刻方法 [P].

新藤尚树 ;

桑岛亮 ;

户田聪 .

中国专利 :CN112542400A ,2021-03-23

[10]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

田原慈 ;

雅各·法盖 ;

前川薫 ;

大野久美子 ;

佐藤渚 ;

雷米·杜萨特 ;

托马斯·蒂洛彻 ;

菲利普·勒福舍 ;

盖尔·安托万 .

中国专利 :CN113966546A ,2022-01-21

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