蚀刻方法和蚀刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080041655.7

申请日：

2020-06-02

公开(公告)号：

CN113966546B

公开(公告)日：

2025-08-08

发明(设计)人：

田原慈雅各·法盖前川薫大野久美子佐藤渚雷米·杜萨特托马斯·蒂洛彻菲利普·勒福舍盖尔·安托万

申请人：

东京毅力科创株式会社法国国立奥尔良大学

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21/3065

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-08	授权	授权

共 50 条

[1]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

田原慈 ;

雅各·法盖 ;

前川薫 ;

大野久美子 ;

佐藤渚 ;

雷米·杜萨特 ;

托马斯·蒂洛彻 ;

菲利普·勒福舍 ;

盖尔·安托万 .

中国专利 :CN113966546A ,2022-01-21

[2]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

神户乔史 .

中国专利 :CN108987285A ,2018-12-11

[3]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

西塚哲也 .

中国专利 :CN100565816C ,2008-11-19

[4]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

日本专利 :CN113053745B ,2025-07-25

[5]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

中国专利 :CN113053745A ,2021-06-29

[6]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

寺嶋亮 .

中国专利 :CN110034021A ,2019-07-19

[7]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

清水祐介 ;

北村彰规 ;

高桥正彦 .

中国专利 :CN109427575A ,2019-03-05

[8]

蚀刻装置和蚀刻方法 [P].

永海幸一 ;

永关一也 .

日本专利 :CN110416116B ,2024-03-29

[9]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

新藤尚树 ;

杨元 ;

铃木春菜 .

中国专利 :CN115410916A ,2022-11-29

[10]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

阿部拓也 ;

三好秀典 ;

清水昭贵 ;

长仓幸一 .

中国专利 :CN110783188A ,2020-02-11

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