蚀刻装置和蚀刻方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910332773.2
申请日
2019-04-24
公开(公告)号
CN110416116B
公开(公告)日
2024-03-29
发明(设计)人
永海幸一 永关一也
申请人
东京毅力科创株式会社
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L21/67
IPC分类号
H01L21/683 H01J37/32
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳;刘芃茜
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
蚀刻装置和蚀刻方法 [P]. 
永海幸一 ;
永关一也 .
中国专利 :CN110416116A ,2019-11-05
[2]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
西塚哲也 .
中国专利 :CN100565816C ,2008-11-19
[3]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
须田隆太郎 ;
户村幕树 .
日本专利 :CN113053745B ,2025-07-25
[4]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
须田隆太郎 ;
户村幕树 .
中国专利 :CN113053745A ,2021-06-29
[5]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
田原慈 ;
雅各·法盖 ;
前川薫 ;
大野久美子 ;
佐藤渚 ;
雷米·杜萨特 ;
托马斯·蒂洛彻 ;
菲利普·勒福舍 ;
盖尔·安托万 .
日本专利 :CN113966546B ,2025-08-08
[6]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
神户乔史 .
中国专利 :CN108987285A ,2018-12-11
[7]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
田原慈 ;
雅各·法盖 ;
前川薫 ;
大野久美子 ;
佐藤渚 ;
雷米·杜萨特 ;
托马斯·蒂洛彻 ;
菲利普·勒福舍 ;
盖尔·安托万 .
中国专利 :CN113966546A ,2022-01-21
[8]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
清水祐介 ;
北村彰规 ;
高桥正彦 .
中国专利 :CN109427575A ,2019-03-05
[9]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
阿部拓也 ;
三好秀典 ;
清水昭贵 ;
长仓幸一 .
中国专利 :CN110783188A ,2020-02-11
[10]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
桥本笃明 ;
隣嘉津彦 ;
小野洋平 ;
堤贤吾 ;
井上宽扬 .
日本专利 :CN116137226B ,2025-11-11