蚀刻方法和蚀刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810567822.6

申请日：

2018-06-05

公开(公告)号：

CN108987285A

公开(公告)日：

2018-12-11

发明(设计)人：

神户乔史

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2144

IPC分类号：

H01L2134 H01L2167

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-11	公开	公开
2019-01-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/44 申请日:20180605

共 50 条

[1]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

田原慈 ;

雅各·法盖 ;

前川薫 ;

大野久美子 ;

佐藤渚 ;

雷米·杜萨特 ;

托马斯·蒂洛彻 ;

菲利普·勒福舍 ;

盖尔·安托万 .

日本专利 :CN113966546B ,2025-08-08

[2]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

西塚哲也 .

中国专利 :CN100565816C ,2008-11-19

[3]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

田原慈 ;

雅各·法盖 ;

前川薫 ;

大野久美子 ;

佐藤渚 ;

雷米·杜萨特 ;

托马斯·蒂洛彻 ;

菲利普·勒福舍 ;

盖尔·安托万 .

中国专利 :CN113966546A ,2022-01-21

[4]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

田原慈 ;

西野雅 .

中国专利 :CN1838387A ,2006-09-27

[5]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

日本专利 :CN113053745B ,2025-07-25

[6]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

须田隆太郎 ;

户村幕树 .

中国专利 :CN113053745A ,2021-06-29

[7]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

寺嶋亮 .

中国专利 :CN110034021A ,2019-07-19

[8]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

清水祐介 ;

北村彰规 ;

高桥正彦 .

中国专利 :CN109427575A ,2019-03-05

[9]

蚀刻装置和蚀刻方法 [P].

永海幸一 ;

永关一也 .

日本专利 :CN110416116B ,2024-03-29

[10]

蚀刻方法和蚀刻装置 [P].

新藤尚树 ;

杨元 ;

铃木春菜 .

中国专利 :CN115410916A ,2022-11-29

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