等离子体生成

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780030147.7

申请日：

2017-03-16

公开(公告)号：

CN109691240A

公开(公告)日：

2019-04-26

发明(设计)人：

托马斯·E·D·弗雷姆托马斯·哈尔汤姆·瓦恩托克

申请人：

申请人地址：

英国黑斯尔米尔

IPC主分类号：

H05H134

IPC分类号：

A61B1804 A61L214

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

王小衡;王天鹏

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-28	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H05H 1/34 申请公布日:20190426
2019-04-26	公开	公开
2019-05-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/34 申请日:20170316

共 50 条

[1]

等离子体的生成 [P].

亚伦·克诺尔 ;

托马斯·哈尔 ;

彼得·肖 ;

托马斯·弗雷姆 ;

汤姆·瓦恩托克 .

中国专利 :CN107079573A ,2017-08-18

[2]

等离子体装置、等离子体生成方法 [P].

神藤高广 .

中国专利 :CN111886934A ,2020-11-03

[3]

等离子体生成装置及等离子体生成方法 [P].

今井伸一 .

中国专利 :CN105551923A ,2016-05-04

[4]

等离子体生成装置 [P].

高村禅 ;

饭塚亚纪子 ;

民谷荣一 .

中国专利 :CN100567964C ,2007-04-04

[5]

等离子体装置及等离子体生成方法 [P].

安藤真 ;

石井信雄 .

中国专利 :CN1488164A ,2004-04-07

[6]

等离子体装置及等离子体生成方法 [P].

安藤真 ;

高桥応明 ;

石井信雄 .

中国专利 :CN1293789C ,2004-10-13

[7]

等离子体处理装置和等离子体生成方法 [P].

齐藤均 ;

町山弥 ;

佐佐木和男 .

中国专利 :CN114256049A ,2022-03-29

[8]

等离子体处理装置和等离子体生成方法 [P].

齐藤均 ;

町山弥 ;

佐佐木和男 .

日本专利 :CN114256049B ,2024-04-16

[9]

等离子体生成用电极和等离子体处理装置 [P].

南雅人 ;

佐佐木芳彦 .

中国专利 :CN102779715B ,2012-11-14

[10]

等离子体生成元件 [P].

山田庆太郎 ;

江崎哲也 ;

高土与明 ;

山本聪彦 .

中国专利 :CN107615889A ,2018-01-19

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