等离子体装置及等离子体生成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02803904.1

申请日：

2002-01-18

公开(公告)号：

CN1293789C

公开(公告)日：

2004-10-13

发明(设计)人：

安藤真高桥応明石井信雄

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

H01L213065 C23C16505

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人：

陆锦华

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-03-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101601596237 IPC(主分类):H05H 1/46 专利号:ZL028039041 申请日:20020118 授权公告日:20070103 终止日期:20140118
2004-10-13	公开	公开
2004-12-29	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

等离子体装置及等离子体生成方法 [P].

安藤真 ;

石井信雄 .

中国专利 :CN1488164A ,2004-04-07

[2]

等离子体装置、等离子体生成方法 [P].

神藤高广 .

中国专利 :CN111886934A ,2020-11-03

[3]

等离子体生成装置及等离子体生成方法 [P].

今井伸一 .

中国专利 :CN105551923A ,2016-05-04

[4]

等离子体处理装置和等离子体生成方法 [P].

齐藤均 ;

町山弥 ;

佐佐木和男 .

中国专利 :CN114256049A ,2022-03-29

[5]

等离子体处理装置和等离子体生成方法 [P].

齐藤均 ;

町山弥 ;

佐佐木和男 .

日本专利 :CN114256049B ,2024-04-16

[6]

等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和等离子体处理装置 [P].

鹭坂圭亮 ;

野口义文 .

中国专利 :CN102939404A ,2013-02-20

[7]

等离子体装置 [P].

石井信雄 .

中国专利 :CN1314085C ,2004-11-03

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

安藤真 ;

高桥応明 ;

八坂保能 ;

石井信雄 .

中国专利 :CN1278392C ,2004-05-05

[9]

等离子体生成 [P].

托马斯·E·D·弗雷姆 ;

托马斯·哈尔 ;

汤姆·瓦恩托克 .

中国专利 :CN109691240A ,2019-04-26

[10]

等离子体生成装置及方法 [P].

钟江正巳 ;

加藤恭一 ;

尾上薰 ;

福冈大辅 .

中国专利 :CN102282916A ,2011-12-14

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