一种原子层沉积装置及原子层沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020673133.6

申请日：

2020-04-27

公开(公告)号：

CN212335291U

公开(公告)日：

2021-01-12

发明(设计)人：

李哲峰乌磊

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C1654

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287

代理人：

魏兰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-12	授权	授权

共 50 条

[1]

原子层沉积设备及原子层沉积喷淋装置 [P].

邵大立 ;

齐彪 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN115404463A ,2022-11-29

[2]

原子层沉积设备的进气装置及原子层沉积设备 [P].

张璞 ;

刘亚男 ;

李靖 .

中国专利 :CN223561687U ,2025-11-18

[3]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

胡汉彦 ;

张华敏 ;

刘海博 ;

罗丹 .

中国专利 :CN221608192U ,2024-08-27

[4]

原子层沉积设备 [P].

王良栋 ;

陈金良 ;

宋维聪 ;

李文涛 .

中国专利 :CN222861631U ,2025-05-13

[5]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

胡汉彦 ;

罗丹 ;

张华敏 ;

刘海博 .

中国专利 :CN221480068U ,2024-08-06

[6]

原子层沉积设备 [P].

王祥慧 .

中国专利 :CN204080104U ,2015-01-07

[7]

原子层沉积设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN220846263U ,2024-04-26

[8]

原子层沉积设备 [P].

林俊成 ;

易锦良 ;

许雲齐 .

中国专利 :CN214400707U ,2021-10-15

[9]

原子层沉积设备 [P].

潘丽君 ;

张恩慈 ;

陈庆尧 ;

白海健 .

中国专利 :CN220364583U ,2024-01-19

[10]

原子层沉积设备 [P].

郑磊 .

中国专利 :CN222512967U ,2025-02-21

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