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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201180010752.0
申请日
:
2011-10-25
公开(公告)号
:
CN102770960B
公开(公告)日
:
2012-11-07
发明(设计)人
:
增田健良
和田圭司
日吉透
申请人
:
申请人地址
:
日本大阪府大阪市
IPC主分类号
:
H01L2912
IPC分类号
:
H01L21336
H01L2978
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
:
韩峰;孙志湧
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-12-26
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101373117997 IPC(主分类):H01L 29/12 专利申请号:2011800107520 申请日:20111025
2012-11-07
公开
公开
2015-08-12
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
千大焕
论文数:
0
引用数:
0
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0
千大焕
.
中国专利
:CN108615767A
,2018-10-02
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
洪坰国
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洪坰国
;
千大焕
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千大焕
;
李钟锡
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李钟锡
;
郑永均
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郑永均
;
姜修槟
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姜修槟
.
中国专利
:CN104733528A
,2015-06-24
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
佐伯贵范
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佐伯贵范
.
中国专利
:CN1190263A
,1998-08-12
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
和田圭司
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和田圭司
;
增田健良
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增田健良
;
日吉透
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日吉透
.
中国专利
:CN103907195B
,2014-07-02
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
周洛龙
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周洛龙
;
郑永均
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郑永均
;
朴正熙
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朴正熙
;
李钟锡
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李钟锡
;
千大焕
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千大焕
.
中国专利
:CN108615758A
,2018-10-02
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
千大焕
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千大焕
.
中国专利
:CN108615766A
,2018-10-02
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
三原龙善
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三原龙善
.
中国专利
:CN107464815A
,2017-12-12
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
千大焕
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千大焕
;
周洛龙
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周洛龙
.
中国专利
:CN108615730A
,2018-10-02
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
李钟锡
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李钟锡
;
洪坰国
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洪坰国
;
千大焕
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千大焕
;
郑永均
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郑永均
.
中国专利
:CN103872130A
,2014-06-18
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
千大焕
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千大焕
;
洪坰国
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洪坰国
;
李钟锡
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李钟锡
;
朴正熙
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朴正熙
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郑永均
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郑永均
.
中国专利
:CN104752505B
,2015-07-01
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