一种ArF光刻胶用光引发剂三苯基硫鎓盐的制备方法及其应用

被引：0

申请号：

CN202210114463.5

申请日：

2022-01-30

公开(公告)号：

CN114736120A

公开(公告)日：

2022-07-12

发明(设计)人：

贾英明曹辰辉税新凤庞玉东

申请人：

申请人地址：

239500 安徽省滁州市全椒县十谭现代产业园朝阳路006号

IPC主分类号：

C07C6708

IPC分类号：

C07C6963 C07C69753 C07C30332 C07C30917 C07C38112 G03F7004

代理机构：

南京经纬专利商标代理有限公司 32200

代理人：

张雅文

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-12	公开	公开
2022-07-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C07C 67/08 申请日:20220130

共 50 条

[41]

一种负性光刻胶及其制备方法与应用 [P].

郑万强 ;

姚慧玲 ;

国凤玲 ;

聂亮 ;

耿超群 ;

王鹏雁 .

中国专利 :CN111158213A ,2020-05-15

[42]

一种负性光刻胶及其制备方法和应用 [P].

卞玉桂 ;

张志强 ;

顾后荻 ;

杨彦 ;

安杨翔 ;

陆晓健 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

徐栋 .

中国专利 :CN117631454A ,2024-03-01

[43]

一类硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用 [P].

杨国强 ;

袁华 ;

许箭 ;

彭晓曼 ;

王亮乾 ;

王双青 .

中国专利 :CN108147983A ,2018-06-12

[44]

一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物 [P].

季生象 ;

刘亚栋 ;

李小欧 ;

顾雪松 .

中国专利 :CN113214429B ,2021-08-06

[45]

一种延长Arf光刻胶保质期的添加剂、光刻胶组合物及其制备方法 [P].

冯芳华 ;

刘秋艳 .

中国专利 :CN118393810A ,2024-07-26

[46]

一种紫外纳米压印用光刻胶组合物及其制备与应用 [P].

孙芳 ;

张明亮 .

中国专利 :CN113156765B ,2021-07-23

[47]

含二苯乙烯结构的硫鎓盐单分子树脂型光刻胶及其制备方法和应用 [P].

陈金平 ;

彭蓉蓉 ;

李嫕 ;

曾毅 ;

于天君 .

中国专利 :CN118702604A ,2024-09-27

[48]

含二苯乙烯结构的硫鎓盐单分子树脂型光刻胶及其制备方法和应用 [P].

陈金平 ;

彭蓉蓉 ;

李嫕 ;

曾毅 ;

于天君 .

中国专利 :CN118702604B ,2024-11-22

[49]

一种光刻胶及其制备方法和应用 [P].

任新宇 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN120428517A ,2025-08-05

[50]

一种用微通道技术合成ArF光刻胶树脂与光刻胶的方法 [P].

夏力 ;

施金普 ;

何国金 ;

李培源 ;

顾大公 ;

陈鹏 ;

尹航 .

中国专利 :CN118027279A ,2024-05-14

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